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Potential part of electric field of ICP coil

ICP devices are widespread in modern technology, so the capacitive coupling in ICP is well known. It does not make a sufficient impact to the power deposition in plasma, and mostly it assumed to be a harmful effect [1]. Fortunately, making use of Faraday shield allows one to avoid a detail investiga...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2021
Hauptverfasser:	Azarenkov, N.A., Gapon, A.V.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2021
Schlagworte:	Low temperature plasma and plasma technologies
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194775
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Potential part of electric field of ICP coil / N.A. Azarenkov, A.V. Gapon // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 150-153. — Бібліогр.: 2 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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