Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
Comparative studies of diamond coatings deposition have been carried out in the glow discharge plasma stabilized by a magnetic field in methane-hydrogen medium with using the DC or pulse power supply. It was shown that using of a pulsed power supply leads to an increase of the input power range at w...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2019 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194829 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma / K.I. Koshevoy, Yu.Ya. Volkov, V.E. Strel’nitskij, E.N. Reshetnyak // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 197-200. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862746726732922880 |
|---|---|
| author | Koshevoy, K.I. Volkov, Yu.Ya. Strel’nitskij, V.E. Reshetnyak, E.N. |
| author_facet | Koshevoy, K.I. Volkov, Yu.Ya. Strel’nitskij, V.E. Reshetnyak, E.N. |
| citation_txt | Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma / K.I. Koshevoy, Yu.Ya. Volkov, V.E. Strel’nitskij, E.N. Reshetnyak // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 197-200. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | Comparative studies of diamond coatings deposition have been carried out in the glow discharge plasma stabilized by a magnetic field in methane-hydrogen medium with using the DC or pulse power supply. It was shown that using of a pulsed power supply leads to an increase of the input power range at which the discharge is stable in comparison with DC one. In addition a significant increase of the samples temperature and the diamond coating growth rate were achieved at the same average power introduced into the discharge. The resulting diamond coating was of high quality and purity.
Були проведені порівняльні дослідження по застосуванню як імпульсного, так і постійного джерел струму для осадження алмазних покриттів у плазмі тліючого розряду, стабілізованого магнітним полем у метановодневому середовищі. Показано, що використання імпульсного джерела живлення призводить до збільшення діапазону вхідної потужності, при якій розряд стійкий в порівнянні з розрядом постійного струму. Крім того, при тій же середній потужності, що вводиться в розряд, досягається значне збільшення температури зразків і швидкості росту алмазного покриття. Отримане алмазне покриття відрізняється високою якістю і чистотою.
Были проведены сравнительные исследования по применению как импульсного, так и постоянного источников тока для осаждения алмазных покрытий в плазме тлеющего разряда, стабилизированного магнитным полем в метановодородной среде. Показано, что использование импульсного источника питания приводит к увеличению диапазона входной мощности, при которой разряд устойчив по сравнению с разрядом постоянного тока. Кроме того, при той же средней мощности, вводимой в разряд, достигается значительное увеличение температуры образцов и скорости роста алмазного покрытия. Полученное алмазное покрытие отличается высоким качеством и чистотой.
|
| first_indexed | 2025-12-07T20:47:12Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-194829 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T20:47:12Z |
| publishDate | 2019 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Koshevoy, K.I. Volkov, Yu.Ya. Strel’nitskij, V.E. Reshetnyak, E.N. 2023-11-30T14:48:05Z 2023-11-30T14:48:05Z 2019 Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma / K.I. Koshevoy, Yu.Ya. Volkov, V.E. Strel’nitskij, E.N. Reshetnyak // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 197-200. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.Dq,81.15.Jj https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194829 Comparative studies of diamond coatings deposition have been carried out in the glow discharge plasma stabilized by a magnetic field in methane-hydrogen medium with using the DC or pulse power supply. It was shown that using of a pulsed power supply leads to an increase of the input power range at which the discharge is stable in comparison with DC one. In addition a significant increase of the samples temperature and the diamond coating growth rate were achieved at the same average power introduced into the discharge. The resulting diamond coating was of high quality and purity. Були проведені порівняльні дослідження по застосуванню як імпульсного, так і постійного джерел струму для осадження алмазних покриттів у плазмі тліючого розряду, стабілізованого магнітним полем у метановодневому середовищі. Показано, що використання імпульсного джерела живлення призводить до збільшення діапазону вхідної потужності, при якій розряд стійкий в порівнянні з розрядом постійного струму. Крім того, при тій же середній потужності, що вводиться в розряд, досягається значне збільшення температури зразків і швидкості росту алмазного покриття. Отримане алмазне покриття відрізняється високою якістю і чистотою. Были проведены сравнительные исследования по применению как импульсного, так и постоянного источников тока для осаждения алмазных покрытий в плазме тлеющего разряда, стабилизированного магнитным полем в метановодородной среде. Показано, что использование импульсного источника питания приводит к увеличению диапазона входной мощности, при которой разряд устойчив по сравнению с разрядом постоянного тока. Кроме того, при той же средней мощности, вводимой в разряд, достигается значительное увеличение температуры образцов и скорости роста алмазного покрытия. Полученное алмазное покрытие отличается высоким качеством и чистотой. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma Застосування імпульсного джерела живлення для осадження алмазних покриттiв у плазмі тлiючого розряду Применение импульсного источника питания для осаждения алмазных покрытий в плазме тлеющего разряда Article published earlier |
| spellingShingle | Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma Koshevoy, K.I. Volkov, Yu.Ya. Strel’nitskij, V.E. Reshetnyak, E.N. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title | Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma |
| title_alt | Застосування імпульсного джерела живлення для осадження алмазних покриттiв у плазмі тлiючого розряду Применение импульсного источника питания для осаждения алмазных покрытий в плазме тлеющего разряда |
| title_full | Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma |
| title_fullStr | Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma |
| title_full_unstemmed | Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma |
| title_short | Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma |
| title_sort | application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma |
| topic | Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet | Low temperature plasma and plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194829 |
| work_keys_str_mv | AT koshevoyki applicationofpulsepowersupplyfordiamondcoatingsdepositioninglowdischargeplasma AT volkovyuya applicationofpulsepowersupplyfordiamondcoatingsdepositioninglowdischargeplasma AT strelnitskijve applicationofpulsepowersupplyfordiamondcoatingsdepositioninglowdischargeplasma AT reshetnyaken applicationofpulsepowersupplyfordiamondcoatingsdepositioninglowdischargeplasma AT koshevoyki zastosuvannâímpulʹsnogodžerelaživlennâdlâosadžennâalmaznihpokrittivuplazmítliûčogorozrâdu AT volkovyuya zastosuvannâímpulʹsnogodžerelaživlennâdlâosadžennâalmaznihpokrittivuplazmítliûčogorozrâdu AT strelnitskijve zastosuvannâímpulʹsnogodžerelaživlennâdlâosadžennâalmaznihpokrittivuplazmítliûčogorozrâdu AT reshetnyaken zastosuvannâímpulʹsnogodžerelaživlennâdlâosadžennâalmaznihpokrittivuplazmítliûčogorozrâdu AT koshevoyki primenenieimpulʹsnogoistočnikapitaniâdlâosaždeniâalmaznyhpokrytiivplazmetleûŝegorazrâda AT volkovyuya primenenieimpulʹsnogoistočnikapitaniâdlâosaždeniâalmaznyhpokrytiivplazmetleûŝegorazrâda AT strelnitskijve primenenieimpulʹsnogoistočnikapitaniâdlâosaždeniâalmaznyhpokrytiivplazmetleûŝegorazrâda AT reshetnyaken primenenieimpulʹsnogoistočnikapitaniâdlâosaždeniâalmaznyhpokrytiivplazmetleûŝegorazrâda |