Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide

The paper is devoted to investigation of spatial distributions of ion current density to a sample in technological set-up with magnetron sputtering system and ICP source. The dependence of the ion flux towards the processed surface on the parameters of the deposition process was measured. The follow...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2019
Hauptverfasser: Yakovin, S., Zykov, A., Dudin, S., Dakhov, A., Yefymenko, N.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2019
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194909
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, A. Dakhov, N. Yefymenko // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 229-232. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-194909
record_format dspace
spelling Yakovin, S.
Zykov, A.
Dudin, S.
Dakhov, A.
Yefymenko, N.
2023-12-01T14:00:22Z
2023-12-01T14:00:22Z
2019
Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, A. Dakhov, N. Yefymenko // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 229-232. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.77.-j, 81.15.-z
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194909
The paper is devoted to investigation of spatial distributions of ion current density to a sample in technological set-up with magnetron sputtering system and ICP source. The dependence of the ion flux towards the processed surface on the parameters of the deposition process was measured. The following parameters were varied: magnetron discharge power, gas type and pressure, target-sample distance, inductive discharge power, and bias potential applied to the samples. The effect of nonequilibrium heating of the sample surface due to relaxation of kinetic energy of ions, atoms and electrons, as well as energy of exothermic chemical reactions at synthesis of Ta₂O₅ and TaB₂ films is discussed. The influence of sample shape on the ion bombardment is also investigated.
Досліджено просторові розподіли щільності іонного струму на зразок у технологічній установці з магнетроном та індукційним джерелом плазми. Виміряно залежності потоку іонів на оброблювану поверхню від параметрів процесу осадження, таких як: потужність магнетрона і індуктивного розряду, тип і тиск газу, потужність, потенціал зсуву на зразок. Обговорюється вплив нерівноважного нагріву поверхні зразка за рахунок релаксації кінетичної енергії іонів, атомів і електронів, а також енергії екзотермічних хімічних реакцій при синтезі плівок Ta₂O₅ і TaB₂. Досліджено вплив форми зразка на іонне бомбардування.
Исследованы пространственные распределения плотности ионного тока на образец в технологической установке с магнетроном и индукционным источником плазмы. Измерены зависимости потока ионов на обрабатываемую поверхность от параметров процесса осаждения, таких как: мощность разряда магнетрона и индуктивного разряда, тип и давление газа, мощность, потенциал смещения, подаваемый на образец. Обсуждаются влияние неравновесного нагрева поверхности образца за счет релаксации кинетической энергии ионов, атомов и электронов, а также энергии экзотермических химических реакций при синтезе пленок Ta₂O₅ и TaB₂. Исследовано влияние формы образца на ионную бомбардировку.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Low temperature plasma and plasma technologies
Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
Дослідження взаємодії між іонно-пучковою плазмою та оброблюваною поверхнею при синтезі дибориду та пентаоксиду танталу
Исследование взаимодействия между ионно-пучковой плазмой и обрабатываемой поверхностью при синтезе диборида и пентаоксида тантала
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
spellingShingle Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
Yakovin, S.
Zykov, A.
Dudin, S.
Dakhov, A.
Yefymenko, N.
Low temperature plasma and plasma technologies
title_short Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
title_full Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
title_fullStr Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
title_full_unstemmed Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
title_sort investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
author Yakovin, S.
Zykov, A.
Dudin, S.
Dakhov, A.
Yefymenko, N.
author_facet Yakovin, S.
Zykov, A.
Dudin, S.
Dakhov, A.
Yefymenko, N.
topic Low temperature plasma and plasma technologies
topic_facet Low temperature plasma and plasma technologies
publishDate 2019
language English
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Дослідження взаємодії між іонно-пучковою плазмою та оброблюваною поверхнею при синтезі дибориду та пентаоксиду танталу
Исследование взаимодействия между ионно-пучковой плазмой и обрабатываемой поверхностью при синтезе диборида и пентаоксида тантала
description The paper is devoted to investigation of spatial distributions of ion current density to a sample in technological set-up with magnetron sputtering system and ICP source. The dependence of the ion flux towards the processed surface on the parameters of the deposition process was measured. The following parameters were varied: magnetron discharge power, gas type and pressure, target-sample distance, inductive discharge power, and bias potential applied to the samples. The effect of nonequilibrium heating of the sample surface due to relaxation of kinetic energy of ions, atoms and electrons, as well as energy of exothermic chemical reactions at synthesis of Ta₂O₅ and TaB₂ films is discussed. The influence of sample shape on the ion bombardment is also investigated. Досліджено просторові розподіли щільності іонного струму на зразок у технологічній установці з магнетроном та індукційним джерелом плазми. Виміряно залежності потоку іонів на оброблювану поверхню від параметрів процесу осадження, таких як: потужність магнетрона і індуктивного розряду, тип і тиск газу, потужність, потенціал зсуву на зразок. Обговорюється вплив нерівноважного нагріву поверхні зразка за рахунок релаксації кінетичної енергії іонів, атомів і електронів, а також енергії екзотермічних хімічних реакцій при синтезі плівок Ta₂O₅ і TaB₂. Досліджено вплив форми зразка на іонне бомбардування. Исследованы пространственные распределения плотности ионного тока на образец в технологической установке с магнетроном и индукционным источником плазмы. Измерены зависимости потока ионов на обрабатываемую поверхность от параметров процесса осаждения, таких как: мощность разряда магнетрона и индуктивного разряда, тип и давление газа, мощность, потенциал смещения, подаваемый на образец. Обсуждаются влияние неравновесного нагрева поверхности образца за счет релаксации кинетической энергии ионов, атомов и электронов, а также энергии экзотермических химических реакций при синтезе пленок Ta₂O₅ и TaB₂. Исследовано влияние формы образца на ионную бомбардировку.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194909
citation_txt Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, A. Dakhov, N. Yefymenko // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 229-232. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT yakovins investigationofinteractionbetweenionbeamplasmaandprocessedsurfaceduringthesynthesisoftantalumdiborideandpentaoxide
AT zykova investigationofinteractionbetweenionbeamplasmaandprocessedsurfaceduringthesynthesisoftantalumdiborideandpentaoxide
AT dudins investigationofinteractionbetweenionbeamplasmaandprocessedsurfaceduringthesynthesisoftantalumdiborideandpentaoxide
AT dakhova investigationofinteractionbetweenionbeamplasmaandprocessedsurfaceduringthesynthesisoftantalumdiborideandpentaoxide
AT yefymenkon investigationofinteractionbetweenionbeamplasmaandprocessedsurfaceduringthesynthesisoftantalumdiborideandpentaoxide
AT yakovins doslídžennâvzaêmodíímížíonnopučkovoûplazmoûtaobroblûvanoûpoverhneûprisintezídiboridutapentaoksidutantalu
AT zykova doslídžennâvzaêmodíímížíonnopučkovoûplazmoûtaobroblûvanoûpoverhneûprisintezídiboridutapentaoksidutantalu
AT dudins doslídžennâvzaêmodíímížíonnopučkovoûplazmoûtaobroblûvanoûpoverhneûprisintezídiboridutapentaoksidutantalu
AT dakhova doslídžennâvzaêmodíímížíonnopučkovoûplazmoûtaobroblûvanoûpoverhneûprisintezídiboridutapentaoksidutantalu
AT yefymenkon doslídžennâvzaêmodíímížíonnopučkovoûplazmoûtaobroblûvanoûpoverhneûprisintezídiboridutapentaoksidutantalu
AT yakovins issledovanievzaimodeistviâmežduionnopučkovoiplazmoiiobrabatyvaemoipoverhnostʹûprisintezediboridaipentaoksidatantala
AT zykova issledovanievzaimodeistviâmežduionnopučkovoiplazmoiiobrabatyvaemoipoverhnostʹûprisintezediboridaipentaoksidatantala
AT dudins issledovanievzaimodeistviâmežduionnopučkovoiplazmoiiobrabatyvaemoipoverhnostʹûprisintezediboridaipentaoksidatantala
AT dakhova issledovanievzaimodeistviâmežduionnopučkovoiplazmoiiobrabatyvaemoipoverhnostʹûprisintezediboridaipentaoksidatantala
AT yefymenkon issledovanievzaimodeistviâmežduionnopučkovoiplazmoiiobrabatyvaemoipoverhnostʹûprisintezediboridaipentaoksidatantala
first_indexed 2025-12-02T11:08:50Z
last_indexed 2025-12-02T11:08:50Z
_version_ 1850862283318624256