Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
The paper is devoted to investigation of spatial distributions of ion current density to a sample in technological set-up with magnetron sputtering system and ICP source. The dependence of the ion flux towards the processed surface on the parameters of the deposition process was measured. The follow...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2019 |
| Автори: | Yakovin, S., Zykov, A., Dudin, S., Dakhov, A., Yefymenko, N. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194909 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, A. Dakhov, N. Yefymenko // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 229-232. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
On the influence of zirconium and tantalum impurities on the transport properties of multicomponent thermal plasma
за авторством: Porytskyy, P.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Porytskyy, P.V., та інші
Опубліковано: (2019)
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
Specific of interaction of the macroparticles with the plasma-beam systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Characterization of plasma and emergent ion beam in a compact helicon source with permanent magnets
за авторством: Virko, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Virko, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
Hall ion source with ballistic and magnetic beam focusing
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
Plasma-surface interaction of electric arc discharge between composite Cu-Cr electrodes
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2020)
Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
Current compensation of hydrogen ion beam extracted from PIG with metal-hydride cathode
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2007)
The synthesis of the fine particles during plasma spray pyrolysis process
за авторством: Valinčius, V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Valinčius, V., та інші
Опубліковано: (2008)
Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Kinetic simulaton of CO₂ conversion in low-pressure electrodeless plasma
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2022)
Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)
Plasma of electric arc discharge between Cu-Mo electrodes
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)
Plasma of electric arc between electrodes from composite materials
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
Ion crystal formation in nonequilibrium dusty plasmas near electrode or electric probe
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
2D fluid model for interactive development of ICP technological tools
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Ion separation in a plasma mass filter based on the band gap filter principle
за авторством: Ilichova, V.O.
Опубліковано: (2019)
за авторством: Ilichova, V.O.
Опубліковано: (2019)
Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)
The synthesis of TiAlN composites by condensation of the different arc plasma flows
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
Plasma of electric arc discharge between copper electrodes in a gas flow
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
Ligth ions and ozone - generaion and interactions with living organisms
за авторством: Kříha, V., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Kříha, V., та інші
Опубліковано: (2005)
Investigations of thermal plasma of electric arc discharge between composite Ag–C electrodes
за авторством: Veklich, A.N., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Veklich, A.N., та інші
Опубліковано: (2016)
Investigation of thermal plasma of arc discharge between novel composite Cu-W materials
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2023)
Dynamics of the ion energy distribution and plasma parameters in flows of the non-self-sustained arc discharge in molybdenum vapors
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)
The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
Схожі ресурси
-
Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021) -
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016) -
The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003) -
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005) -
On the influence of zirconium and tantalum impurities on the transport properties of multicomponent thermal plasma
за авторством: Porytskyy, P.V., та інші
Опубліковано: (2019)