Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
To solve the actual problem of the analysis of the sputtered particles radiation during coating deposition in a magnetron sputtering system, a digital technique was proposed for processing the emission spectra of the discharge plasma. A graphic OSA application has been created, which allows obtainin...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2019 |
| Автори: | Afanasіeva, I.A., Afanasiev, S.N., Azarenkov, N.A., Bobkov, V.V., Gritsyna, V.V., Logachev, Yu.E., Okseniuk, I.I., Skrypnyk, A.A., Shevchenko, D.I., Chornous, V.M. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194956 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system / I.A. Afanasіeva, S.N. Afanasiev, N.A. Azarenkov, V.V. Bobkov, V.V. Gritsyna, Yu.E. Logachev, I.I. Okseniuk, A.A. Skrypnyk, D.I. Shevchenko, V.M. Chornous // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 2. — С. 164. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Digital identification of the emission spectrum lines of magnetron discharge
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Study of the process of thermal dissociation of tantal pentachloride in vacuum
за авторством: Polyakov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Polyakov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Studying the changes in the characteristics of radiation-protective composition materials in dependence on homogeneity of distributing of metal components
за авторством: Prokhorenko, E.M., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Prokhorenko, E.M., та інші
Опубліковано: (2019)
Vacuum CVD coatings Ta on target W plate of neutrons source
за авторством: Borts, B.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Borts, B.V., та інші
Опубліковано: (2019)
Erosion of Co-Cr-W alloy and coating on its basis under the action of cavitation
за авторством: Kovalenko, V.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kovalenko, V.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2019)
Rare-earth permanent magnet in magnetic system of electron accelerator with the energy of 10 MеV
за авторством: Bovda, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Bovda, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Hardening of leading edges of turbine blades by electrospark alloying
за авторством: Kalinina, N.E., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kalinina, N.E., та інші
Опубліковано: (2019)
Structure and mechanical properties of multilayer coatings (TiAlCrY)N/ZrN
за авторством: Novikov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Novikov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)
The use of negative bias potential for structural engineering of vacuum-arc nitride coatings based on high-entropy alloys
за авторством: Sobol', O.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Sobol', O.V., та інші
Опубліковано: (2019)
Plasma coating formation by the deposition of cathode material eroded through high-current pulsed discharge
за авторством: Chabak, Yu.G., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Chabak, Yu.G., та інші
Опубліковано: (2019)
Effect of chromium coatings on the mechanical properties of Zr1Nb fuel claddings in longitudinal and transverse directions
за авторством: Belous, V.А., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Belous, V.А., та інші
Опубліковано: (2019)
Pure iron and nickel for new structural reactor materials
за авторством: Pylypenko, M.M., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Pylypenko, M.M., та інші
Опубліковано: (2019)
Kinetic regularities of the formation of gas products under the influence of ionizing radiation on biomass
за авторством: Khalilov, Z.Z., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Khalilov, Z.Z., та інші
Опубліковано: (2019)
Study of low-pressure discharge by optical emission spectroscopy
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2020)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)
Spatial separation of ions of a given mass range in the demo-imitation separator at the first turn of ionic trajectory
за авторством: Katrechko, V.V., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Katrechko, V.V., та інші
Опубліковано: (2021)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Infrared heaters with thin-film conductive layers were synthesized on the glass by the magnetron sputtering
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)
Movement of charged particles in magnetic and nonuniform stochastic electric fields
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Control of planar magnetron sputtering system operating modes by additional anode magnetic field
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2010)
Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)
Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)
Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
Structural and optical studies of Cu₆PSe₅I-based thin film deposited by magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)
On the possibility of obtaining a beam of heavy ions in the form of an “open umbrella” with subsequent deposition in the separator manifold
за авторством: Yuferov, V.B., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Yuferov, V.B., та інші
Опубліковано: (2023)
The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
за авторством: V. M. Kolomiiets, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: V. M. Kolomiiets, та інші
Опубліковано: (2020)
Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
Formation of porous zinc nanosystems using direct and reverse flows of DC magnetron sputtering
за авторством: Latyshev, V.M., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Latyshev, V.M., та інші
Опубліковано: (2017)
Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)
The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012)
Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)
Схожі ресурси
-
Digital identification of the emission spectrum lines of magnetron discharge
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019) -
Study of the process of thermal dissociation of tantal pentachloride in vacuum
за авторством: Polyakov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2019) -
Studying the changes in the characteristics of radiation-protective composition materials in dependence on homogeneity of distributing of metal components
за авторством: Prokhorenko, E.M., та інші
Опубліковано: (2019) -
Vacuum CVD coatings Ta on target W plate of neutrons source
за авторством: Borts, B.V., та інші
Опубліковано: (2019) -
Erosion of Co-Cr-W alloy and coating on its basis under the action of cavitation
за авторством: Kovalenko, V.I., та інші
Опубліковано: (2019)