Formation of light impurities in a hydrogen plasma at initial stage of a discharge

• Veröffentlicht in: Вопросы атомной науки и техники
• Datum: 2019
• ISSN: 1562-6016
• Hauptverfasser: Yuferov, V.B., Skibenko, E.I., Tkachov, V.I., Katrechko, V.V., Svichkar, A.S.
• Format: Artikel
• Sprache: Englisch
• Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2019
• Schlagworte: Gas and plasma-beam discharges and their applications
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195190
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Formation of light impurities in a hydrogen plasma at initial stage of a discharge / V.B. Yuferov, E.I. Skibenko, V.I. Tkachov, V.V. Katrechko, A.S. Svichkar // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 110-112. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.

Analyzing the dynamics of density for atomic and molecular hydrogen ions, the values of atomic hydrogen and UV radiation fluxes to the walls of the plasma chamber were obtained, resulting in light impurities of carbon and oxygen at plasma start-up during the process of desorption from the walls under irradiation. The fluxes of impurity atoms associated with the fluxes of photons and hydrogen atoms in a discharge are determined. Recommendations are given to reduce the amount of impurities at the initial stage of discharge. При розгляді динаміки щільності водневих атомарних і молекулярних іонів отримані величини потоків атомарного водню і УФ-випромінювання на стінки плазмової камери, через що з'являються легкі домішки вуглецю і кисню на початковій стадії розряду в процесі десорбції зі стінок при опроміненні. Визначено величини потоків домішкових атомів, пов'язаних з потоками фотонів і атомів водню, що виникають у розряді. Надано рекомендації щодо зменшення кількості домішок на початковій стадії розряду. При рассмотрении динамики плотности водородных атомарных и молекулярных ионов получены величины потоков атомарного водорода и УФ-излучения на стенки плазменной камеры, в результате чего появляются легкие примеси углерода и кислорода на начальной стадии развития разряда в процессе десорбции со стенок при облучении. Определены величины потоков примесных атомов, связанных с потоками фотонов и атомов водорода, возникающих в разряде. Даны рекомендации по уменьшению количества примесей на начальной стадии разряда.