Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc
An analytical model of the interaction of macroparticle (MP) with vacuum arc plasma in plasma immersion ion implantation (PIII) is presented. The proposed model is based on combination of the theory of charge dynamics of MP and sheath model for PIII. In the framework of this model, the MP charge dyn...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2019 |
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195192 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 120-123. — Бібліогр.: 17 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-195192 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. 2023-12-03T14:50:48Z 2023-12-03T14:50:48Z 2019 Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 120-123. — Бібліогр.: 17 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.40.Hf https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195192 An analytical model of the interaction of macroparticle (MP) with vacuum arc plasma in plasma immersion ion implantation (PIII) is presented. The proposed model is based on combination of the theory of charge dynamics of MP and sheath model for PIII. In the framework of this model, the MP charge dynamics during voltage pulse as well as during interval between pulses is investigated. It is obtained that MP charge and MP behavior depend on pulsed bias parameters such as pulse duration, duty cycle and bias amplitude. It is shown that pulsed substrate biasing is effective method to control of the MPs in plasma processing. Подано аналітичну теорії взаємодії макрочастинки (МЧ) з плазмою вакуумної дуги при плазмовій імерсійній іонній імплантації (ПІІІ). Запропонована модель базується на комбінації теорії динаміки зарядження МЧ та теорії шару для ПІІІ. У рамках цієї моделі досліджується динаміка зарядження як протягом імпульсу, так і в інтервал між імпульсами. Отримано, що заряд та поведінка МЧ залежать від параметрів імпульсного потенціалу, таких як тривалість імпульсу, період та амплітуда потенціалу. Показано, що застосування імпульсного потенціалу є ефективним методом контролю за МЧ у плазмових процесах. Представлена модель взаимодействия макрочастицы (МЧ) с плазмой вакуумной дуги при плазменной иммерсионной ионной имплантации (ПИИИ). Предложенная модель основана на комбинации теории динамики заряда МЧ и модели слоя для ПИИИ. В рамках этой модели исследуется динамика заряда МЧ как во время импульса, так и в интервале между импульсами. Получено, что заряд и поведение МЧ зависят от параметров импульсного потенциала, таких как длительность импульса, период и амплитуда потенциала. Показано, что применение импульсного потенциала является эффективным методом контроля МЧ в плазменных процессах. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Gas and plasma-beam discharges and their applications Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc Вплив імпульсного потенціалу підкладки на макрочастинку у вакуумній дузі Влияние импульсного потенциала подкладки на макрочастицу в вакуумной дуге Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc |
| spellingShingle |
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. Gas and plasma-beam discharges and their applications |
| title_short |
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc |
| title_full |
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc |
| title_fullStr |
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc |
| title_full_unstemmed |
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc |
| title_sort |
effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc |
| author |
Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. |
| author_facet |
Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. |
| topic |
Gas and plasma-beam discharges and their applications |
| topic_facet |
Gas and plasma-beam discharges and their applications |
| publishDate |
2019 |
| language |
English |
| container_title |
Вопросы атомной науки и техники |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Вплив імпульсного потенціалу підкладки на макрочастинку у вакуумній дузі Влияние импульсного потенциала подкладки на макрочастицу в вакуумной дуге |
| description |
An analytical model of the interaction of macroparticle (MP) with vacuum arc plasma in plasma immersion ion implantation (PIII) is presented. The proposed model is based on combination of the theory of charge dynamics of MP and sheath model for PIII. In the framework of this model, the MP charge dynamics during voltage pulse as well as during interval between pulses is investigated. It is obtained that MP charge and MP behavior depend on pulsed bias parameters such as pulse duration, duty cycle and bias amplitude. It is shown that pulsed substrate biasing is effective method to control of the MPs in plasma processing.
Подано аналітичну теорії взаємодії макрочастинки (МЧ) з плазмою вакуумної дуги при плазмовій імерсійній іонній імплантації (ПІІІ). Запропонована модель базується на комбінації теорії динаміки зарядження МЧ та теорії шару для ПІІІ. У рамках цієї моделі досліджується динаміка зарядження як протягом імпульсу, так і в інтервал між імпульсами. Отримано, що заряд та поведінка МЧ залежать від параметрів імпульсного потенціалу, таких як тривалість імпульсу, період та амплітуда потенціалу. Показано, що застосування імпульсного потенціалу є ефективним методом контролю за МЧ у плазмових процесах.
Представлена модель взаимодействия макрочастицы (МЧ) с плазмой вакуумной дуги при плазменной иммерсионной ионной имплантации (ПИИИ). Предложенная модель основана на комбинации теории динамики заряда МЧ и модели слоя для ПИИИ. В рамках этой модели исследуется динамика заряда МЧ как во время импульса, так и в интервале между импульсами. Получено, что заряд и поведение МЧ зависят от параметров импульсного потенциала, таких как длительность импульса, период и амплитуда потенциала. Показано, что применение импульсного потенциала является эффективным методом контроля МЧ в плазменных процессах.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195192 |
| citation_txt |
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 120-123. — Бібліогр.: 17 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT romashchenkoev effectofpulsedsubstratebiasingonmacroparticleinvacuumarc AT bizyukovaa effectofpulsedsubstratebiasingonmacroparticleinvacuumarc AT girkaio effectofpulsedsubstratebiasingonmacroparticleinvacuumarc AT romashchenkoev vplivímpulʹsnogopotencíalupídkladkinamakročastinkuuvakuumníiduzí AT bizyukovaa vplivímpulʹsnogopotencíalupídkladkinamakročastinkuuvakuumníiduzí AT girkaio vplivímpulʹsnogopotencíalupídkladkinamakročastinkuuvakuumníiduzí AT romashchenkoev vliânieimpulʹsnogopotencialapodkladkinamakročasticuvvakuumnoiduge AT bizyukovaa vliânieimpulʹsnogopotencialapodkladkinamakročasticuvvakuumnoiduge AT girkaio vliânieimpulʹsnogopotencialapodkladkinamakročasticuvvakuumnoiduge |
| first_indexed |
2025-12-07T13:25:27Z |
| last_indexed |
2025-12-07T13:25:27Z |
| _version_ |
1850856101271044096 |