Зображення обкладинки

Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc

An analytical model of the interaction of macroparticle (MP) with vacuum arc plasma in plasma immersion ion implantation (PIII) is presented. The proposed model is based on combination of the theory of charge dynamics of MP and sheath model for PIII. In the framework of this model, the MP charge dyn...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2019
Автори:	Romashchenko, E.V., Bizyukov, A.A., Girka, I.О.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2019
Теми:	Gas and plasma-beam discharges and their applications
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195192
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 120-123. — Бібліогр.: 17 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Investigation of spatial distribution of metal vapours admixtures in the plasma of an electric arc discharge
за авторством: Murmantsev, A.
Опубліковано: (2023)

Estimation of the role of radiation in the plasma of electric arc discharge between Cu-C composites
за авторством: Veklich, A., та інші
Опубліковано: (2021)

Study of the dependence of the characteristics of the pulse negative corona on the parameters of the combined high voltage power supply
за авторством: Taran, G.V., та інші
Опубліковано: (2023)

Azimuthal stability of trichel pulses and cathode directed streamers
за авторством: Bolotov, O., та інші
Опубліковано: (2019)

Numerical simulation of initial pressure effect on energy input in spark discharge in nitrogen
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2019)

Effect of plasma chemical oxidation of ethylene impurities on the efficiency of kiwifruit storage
за авторством: Yegorov, M.O., та інші
Опубліковано: (2023)

Effect of negative shift of metalhydride cathode on the emission of H⁻ ions from penning discharge
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2019)

Optical characteristics and parameters of gas-discharge plasma on mixtures of mercury dichloride vapor and neon
за авторством: Malinina, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Ignition and properties of RF capacitive discharge in acetylene
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Impact of corona discharge on Serratia marcescens and Pseudomonas syringae inactivation
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)

Simulation of capacitively coupled RF discharge in argon
за авторством: Lisovskiy, V., та інші
Опубліковано: (2023)

Two stage plasma source for large scale beam generation
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2023)

Measurement of the local electron temperature in self-compressed plasma stream
за авторством: Solyakov, D.G., та інші
Опубліковано: (2021)

Contribution of drift and diffusion to water capacity deionization
за авторством: Kudin, D.V., та інші
Опубліковано: (2021)

Direct water treatment by APGD with rotating electrodes
за авторством: Golota, V., та інші
Опубліковано: (2023)

Study of the fungicidal properties of ozone treatment, Ag and Cu nanoparticles and their combined action on the model of sanitary significant mold saprophyte Aspergillus flavus
за авторством: Taran, G.V., та інші
Опубліковано: (2023)

Penning-type H⁻ ion source with metal hydride cathode in pulsating regime
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2023)

Thermal radiation in spark discharge
за авторством: Korytchenko, K., та інші
Опубліковано: (2021)

Computer calculation of probability for binary collisions of electrons with ions and molecules
за авторством: Marchuk, Yu.M., та інші
Опубліковано: (2021)

Methods for control the self-sustained plasma-beam discharge at high energy density
за авторством: Hrechko, Ya.O., та інші
Опубліковано: (2019)

Structure and properties of glow discharge in argon with hollow cathode
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)

The atomic-molecular processes in a hydrogen plasma at initial stage of a discharge
за авторством: Yuferov, V.B., та інші
Опубліковано: (2019)

Formation of light impurities in a hydrogen plasma at initial stage of a discharge
за авторством: Yuferov, V.B., та інші
Опубліковано: (2019)

Basic plasma features of planar jet formed by capacitive RF discharge in atmosphere pressure argon
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)

Dynamics of macroparticle in a weakly collisional plasma
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)

Charging of macroparticles in a high-voltage vacuum arc sheath
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)

Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)

Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2018)

Specific of interaction of the macroparticles with the plasma-beam systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)

Vaporization of metallic macroparticles in the high temperature technology plasma
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2016)

Dynamics of macroparticles in a magnetic filter for a vacuum arc plasma sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)

Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2019)

Macroparticles in beam-plasma systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2016)

Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Comparison of characteristics of vacuum-arc nano-structure TIN coatings deposited under hv pulse substrate bias
за авторством: V. M. Shulaev, та інші
Опубліковано: (2007)

Current-carrying and electrostatic plasma-electron lenses controlled by the external programmed magnetic field
за авторством: Ivanov, B.I., та інші
Опубліковано: (2000)

Effect of the parameters of a gas-discharge plasma on the equilibrium temperature and floating potential of macroparticle
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2012)

The use of negative bias potential for structural engineering of vacuum-arc nitride coatings based on high-entropy alloys
за авторством: Sobol', O.V., та інші
Опубліковано: (2019)

Calculation of macroparticle flow in filtered vacuum ARC plasma systems
за авторством: Aksyonov, D.S.
Опубліковано: (2012)

Сharging processes and phase states of macroparticles in low-pressure arc discharge
за авторством: Bizyukov, А.А., та інші
Опубліковано: (2013)