Methods for control the self-sustained plasma-beam discharge at high energy density
Three methods for control the self-sustained plasma-beam discharge at high energy density are presented in this paper. Using a particular method, it is possible to set the location of the double layers formation in the discharge gap, as well as control its parameters at the high-current inductive di...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2019 |
| Main Authors: | , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195198 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Methods for control the self-sustained plasma-beam discharge at high energy density / Ya.O. Hrechko, N.A. Azarenkov, A.F. Tseluyko, D.L. Ryabchikov, I.N. Sereda // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 151-154. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Summary: | Three methods for control the self-sustained plasma-beam discharge at high energy density are presented in this paper. Using a particular method, it is possible to set the location of the double layers formation in the discharge gap, as well as control its parameters at the high-current inductive discharge stage. It is shown that such methods can significantly increase the active power inputted into the discharge.
Наведено три методи керування самостійним плазмово-пучковим розрядом при високій густині енергії. Використовуючи певний метод, можна задавати розташування формування подвійних шарів у розрядному проміжку, а також керувати його параметрами на сильнострумовій індуктивній стадії розряду. Показано, що наведені методи дозволяють значно збільшити активну потужність, що вводиться в розряд.
Приведены три метода управления самостоятельным плазменно-пучковым разрядом при высокой плотности энергии. Используя определенный метод, можно задавать местоположение формирования двойных слоев в разрядном промежутке, а также управлять его параметрами на сильноточной индуктивной стадии разряда. Показано, что приведенные методы позволяют значительно увеличить активную мощность, вводимую в разряд.
|
|---|---|
| ISSN: | 1562-6016 |