Methods for control the self-sustained plasma-beam discharge at high energy density
Three methods for control the self-sustained plasma-beam discharge at high energy density are presented in this paper. Using a particular method, it is possible to set the location of the double layers formation in the discharge gap, as well as control its parameters at the high-current inductive di...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2019 |
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195198 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Methods for control the self-sustained plasma-beam discharge at high energy density / Ya.O. Hrechko, N.A. Azarenkov, A.F. Tseluyko, D.L. Ryabchikov, I.N. Sereda // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 151-154. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | Three methods for control the self-sustained plasma-beam discharge at high energy density are presented in this paper. Using a particular method, it is possible to set the location of the double layers formation in the discharge gap, as well as control its parameters at the high-current inductive discharge stage. It is shown that such methods can significantly increase the active power inputted into the discharge.
Наведено три методи керування самостійним плазмово-пучковим розрядом при високій густині енергії. Використовуючи певний метод, можна задавати розташування формування подвійних шарів у розрядному проміжку, а також керувати його параметрами на сильнострумовій індуктивній стадії розряду. Показано, що наведені методи дозволяють значно збільшити активну потужність, що вводиться в розряд.
Приведены три метода управления самостоятельным плазменно-пучковым разрядом при высокой плотности энергии. Используя определенный метод, можно задавать местоположение формирования двойных слоев в разрядном промежутке, а также управлять его параметрами на сильноточной индуктивной стадии разряда. Показано, что приведенные методы позволяют значительно увеличить активную мощность, вводимую в разряд.
|
|---|---|
| ISSN: | 1562-6016 |