Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage
The paper presents the results of the study on the influence of a high substrate bias voltage from 300 up to 1300 V on the titanium nitride coating deposition under nitrogen pressure of 2 Pa. The deposition rate, phase and chemical composition, adhesion and mechanical properties of coatings, macropa...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2019 |
| Main Authors: | , , , , , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195216 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage / A.S. Kuprin, S.A. Leonov, V.D. Ovcharenko, E.N. Reshetnyak, V.A. Belous, R.L. Vasilenko, G.N. Tolmachova, V.I. Kovalenko, I.O. Klimenko // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 5. — С. 154-160. — Бібліогр.: 29 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862652886692921344 |
|---|---|
| author | Kuprin, A.S. Leonov, S.A. Ovcharenko, V.D. Reshetnyak, E.N. Belous, V.A. Vasilenko, R.L. Tolmachova, G.N. Kovalenko, V.I. Klimenko, I.O. |
| author_facet | Kuprin, A.S. Leonov, S.A. Ovcharenko, V.D. Reshetnyak, E.N. Belous, V.A. Vasilenko, R.L. Tolmachova, G.N. Kovalenko, V.I. Klimenko, I.O. |
| citation_txt | Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage / A.S. Kuprin, S.A. Leonov, V.D. Ovcharenko, E.N. Reshetnyak, V.A. Belous, R.L. Vasilenko, G.N. Tolmachova, V.I. Kovalenko, I.O. Klimenko // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 5. — С. 154-160. — Бібліогр.: 29 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | The paper presents the results of the study on the influence of a high substrate bias voltage from 300 up to 1300 V on the titanium nitride coating deposition under nitrogen pressure of 2 Pa. The deposition rate, phase and chemical composition, adhesion and mechanical properties of coatings, macroparticle number and size distribution were investigated.
Представлені результати дослідження впливу високої напруги зсуву підкладки від 300 до 1300 В на осадження покриттів нітриду титану при тиску азоту 2 Па. Вивчені швидкість осадження, фазовий і хімічний склад, адгезія і механічні властивості покриттів, кількість і розподіл за розмірами макрочасток.
Представлены результаты исследования влияния высокого напряжения смещения подложки от 300 до 1300 В на осаждение покрытий нитрида титана при давлении азота 2 Па. Изучены скорость осаждения, фазовый и химический составы, адгезия и механические свойства покрытий, количество и распределение по размерам макрочастиц.
|
| first_indexed | 2025-12-01T23:21:53Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-195216 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-01T23:21:53Z |
| publishDate | 2019 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Kuprin, A.S. Leonov, S.A. Ovcharenko, V.D. Reshetnyak, E.N. Belous, V.A. Vasilenko, R.L. Tolmachova, G.N. Kovalenko, V.I. Klimenko, I.O. 2023-12-03T15:30:52Z 2023-12-03T15:30:52Z 2019 Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage / A.S. Kuprin, S.A. Leonov, V.D. Ovcharenko, E.N. Reshetnyak, V.A. Belous, R.L. Vasilenko, G.N. Tolmachova, V.I. Kovalenko, I.O. Klimenko // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 5. — С. 154-160. — Бібліогр.: 29 назв. — англ. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195216 669.056.9 The paper presents the results of the study on the influence of a high substrate bias voltage from 300 up to 1300 V on the titanium nitride coating deposition under nitrogen pressure of 2 Pa. The deposition rate, phase and chemical composition, adhesion and mechanical properties of coatings, macroparticle number and size distribution were investigated. Представлені результати дослідження впливу високої напруги зсуву підкладки від 300 до 1300 В на осадження покриттів нітриду титану при тиску азоту 2 Па. Вивчені швидкість осадження, фазовий і хімічний склад, адгезія і механічні властивості покриттів, кількість і розподіл за розмірами макрочасток. Представлены результаты исследования влияния высокого напряжения смещения подложки от 300 до 1300 В на осаждение покрытий нитрида титана при давлении азота 2 Па. Изучены скорость осаждения, фазовый и химический составы, адгезия и механические свойства покрытий, количество и распределение по размерам макрочастиц. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage Осадження TiN-покриттів з використанням вакуумно-дугової плазми при підвищеній негативній напрузі підкладки Осаждение TiN-покрытий с использованием вакуумно-дуговой плазмы при повышенном отрицательном напряжении подложки Article published earlier |
| spellingShingle | Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage Kuprin, A.S. Leonov, S.A. Ovcharenko, V.D. Reshetnyak, E.N. Belous, V.A. Vasilenko, R.L. Tolmachova, G.N. Kovalenko, V.I. Klimenko, I.O. Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies |
| title | Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage |
| title_alt | Осадження TiN-покриттів з використанням вакуумно-дугової плазми при підвищеній негативній напрузі підкладки Осаждение TiN-покрытий с использованием вакуумно-дуговой плазмы при повышенном отрицательном напряжении подложки |
| title_full | Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage |
| title_fullStr | Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage |
| title_full_unstemmed | Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage |
| title_short | Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage |
| title_sort | deposition of tin-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage |
| topic | Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies |
| topic_facet | Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195216 |
| work_keys_str_mv | AT kuprinas depositionoftinbasedcoatingsusingvacuumarcplasmainincreasednegativesubstratebiasvoltage AT leonovsa depositionoftinbasedcoatingsusingvacuumarcplasmainincreasednegativesubstratebiasvoltage AT ovcharenkovd depositionoftinbasedcoatingsusingvacuumarcplasmainincreasednegativesubstratebiasvoltage AT reshetnyaken depositionoftinbasedcoatingsusingvacuumarcplasmainincreasednegativesubstratebiasvoltage AT belousva depositionoftinbasedcoatingsusingvacuumarcplasmainincreasednegativesubstratebiasvoltage AT vasilenkorl depositionoftinbasedcoatingsusingvacuumarcplasmainincreasednegativesubstratebiasvoltage AT tolmachovagn depositionoftinbasedcoatingsusingvacuumarcplasmainincreasednegativesubstratebiasvoltage AT kovalenkovi depositionoftinbasedcoatingsusingvacuumarcplasmainincreasednegativesubstratebiasvoltage AT klimenkoio depositionoftinbasedcoatingsusingvacuumarcplasmainincreasednegativesubstratebiasvoltage AT kuprinas osadžennâtinpokrittívzvikoristannâmvakuumnodugovoíplazmipripídviŝeníinegativníinapruzípídkladki AT leonovsa osadžennâtinpokrittívzvikoristannâmvakuumnodugovoíplazmipripídviŝeníinegativníinapruzípídkladki AT ovcharenkovd osadžennâtinpokrittívzvikoristannâmvakuumnodugovoíplazmipripídviŝeníinegativníinapruzípídkladki AT reshetnyaken osadžennâtinpokrittívzvikoristannâmvakuumnodugovoíplazmipripídviŝeníinegativníinapruzípídkladki AT belousva osadžennâtinpokrittívzvikoristannâmvakuumnodugovoíplazmipripídviŝeníinegativníinapruzípídkladki AT vasilenkorl osadžennâtinpokrittívzvikoristannâmvakuumnodugovoíplazmipripídviŝeníinegativníinapruzípídkladki AT tolmachovagn osadžennâtinpokrittívzvikoristannâmvakuumnodugovoíplazmipripídviŝeníinegativníinapruzípídkladki AT kovalenkovi osadžennâtinpokrittívzvikoristannâmvakuumnodugovoíplazmipripídviŝeníinegativníinapruzípídkladki AT klimenkoio osadžennâtinpokrittívzvikoristannâmvakuumnodugovoíplazmipripídviŝeníinegativníinapruzípídkladki AT kuprinas osaždenietinpokrytiisispolʹzovaniemvakuumnodugovoiplazmypripovyšennomotricatelʹnomnaprâženiipodložki AT leonovsa osaždenietinpokrytiisispolʹzovaniemvakuumnodugovoiplazmypripovyšennomotricatelʹnomnaprâženiipodložki AT ovcharenkovd osaždenietinpokrytiisispolʹzovaniemvakuumnodugovoiplazmypripovyšennomotricatelʹnomnaprâženiipodložki AT reshetnyaken osaždenietinpokrytiisispolʹzovaniemvakuumnodugovoiplazmypripovyšennomotricatelʹnomnaprâženiipodložki AT belousva osaždenietinpokrytiisispolʹzovaniemvakuumnodugovoiplazmypripovyšennomotricatelʹnomnaprâženiipodložki AT vasilenkorl osaždenietinpokrytiisispolʹzovaniemvakuumnodugovoiplazmypripovyšennomotricatelʹnomnaprâženiipodložki AT tolmachovagn osaždenietinpokrytiisispolʹzovaniemvakuumnodugovoiplazmypripovyšennomotricatelʹnomnaprâženiipodložki AT kovalenkovi osaždenietinpokrytiisispolʹzovaniemvakuumnodugovoiplazmypripovyšennomotricatelʹnomnaprâženiipodložki AT klimenkoio osaždenietinpokrytiisispolʹzovaniemvakuumnodugovoiplazmypripovyšennomotricatelʹnomnaprâženiipodložki |