Зображення обкладинки

Features of plasma chemical etching of lithium tantalate substrate (LiTaO₃)

The results of researches of plasma chemical treatment of lithium monocrystalline tantalate (LiTaO₃) from gas type, bias voltage (energy of chemically active ions) and from current of additional bias generator are given. A closed-loop electron drift plasma chemical reactor and gas mixtures containin...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2021
Автори: Fedorovich, O.A., Hladkovska, O.V., Hladkovskyi, V.V., Nedybaliuk, A.F.
Формат: Стаття
Мова:Англійська
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2021
Теми:
Applications and technologies
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195429
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Features of plasma chemical etching of lithium tantalate substrate (LiTaO₃) / O.A. Fedorovich, O.V. Hladkovska, V.V. Hladkovskyi, A.F. Nedybaliuk // Problems of Atomic Science and Technology. — 2021. — № 4. — С. 188-190. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Схожі ресурси