Simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches

• Published in: Problems of Atomic Science and Technology
• Date: 2022
• Main Authors: Bondar, D.S., Maslov, V.I., Onishchenko, I.N.
• Format: Article
• Language: English
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2022
• Subjects: Basic plasma physics
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195882
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches / ПІБ // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 36-39. — Бібліогр.: 14 назв. — англ.

By using two-dimensional numerical simulation, the ratio between the effects of wakefield focusing and self-focusing during the propagation of a short sequence of electron bunches in plasma has been simulated. Cases of dominant wakefield focusing have been demonstrated. In addition, the collection data is presented on the parameters of the bunch length, shape and distance between bunches correspond to certain ratios of wakefield focusing and self-focusing that can be used in further studies. За допомогою двовимірного чисельного моделювання змодельовано співвідношення між ефектами кільватерного фокусування та самофокусування при поширенні короткої послідовності електронних згустків у плазмі. Продемонстровані випадки домінуючого кільватерного фокусування. Крім того, представлені збірні дані про параметри довжини, форми згустку та відстані між згустками, що відповідають певним співвідношенням фокусування кільватерним полем та самофокусування, які можуть бути використані в подальших дослідженнях.