Simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches
By using two-dimensional numerical simulation, the ratio between the effects of wakefield focusing and self-focusing during the propagation of a short sequence of electron bunches in plasma has been simulated. Cases of dominant wakefield focusing have been demonstrated. In addition, the collection d...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Problems of Atomic Science and Technology |
|---|---|
| Дата: | 2022 |
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2022
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195882 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches / ПІБ // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 36-39. — Бібліогр.: 14 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-195882 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Bondar, D.S. Maslov, V.I. Onishchenko, I.N. 2023-12-08T10:29:33Z 2023-12-08T10:29:33Z 2022 Simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches / ПІБ // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 36-39. — Бібліогр.: 14 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 29.17.+w; 41.75.Lx DOI: https://doi.org/10.46813/2022-142-036 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195882 By using two-dimensional numerical simulation, the ratio between the effects of wakefield focusing and self-focusing during the propagation of a short sequence of electron bunches in plasma has been simulated. Cases of dominant wakefield focusing have been demonstrated. In addition, the collection data is presented on the parameters of the bunch length, shape and distance between bunches correspond to certain ratios of wakefield focusing and self-focusing that can be used in further studies. За допомогою двовимірного чисельного моделювання змодельовано співвідношення між ефектами кільватерного фокусування та самофокусування при поширенні короткої послідовності електронних згустків у плазмі. Продемонстровані випадки домінуючого кільватерного фокусування. Крім того, представлені збірні дані про параметри довжини, форми згустку та відстані між згустками, що відповідають певним співвідношенням фокусування кільватерним полем та самофокусування, які можуть бути використані в подальших дослідженнях. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Problems of Atomic Science and Technology Basic plasma physics Simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches Моделювання кільватерного фокусування та самофокусування короткої послідовності електронних згустків у залежності від довжини, форми згустків та відстані між ними Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches |
| spellingShingle |
Simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches Bondar, D.S. Maslov, V.I. Onishchenko, I.N. Basic plasma physics |
| title_short |
Simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches |
| title_full |
Simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches |
| title_fullStr |
Simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches |
| title_full_unstemmed |
Simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches |
| title_sort |
simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches |
| author |
Bondar, D.S. Maslov, V.I. Onishchenko, I.N. |
| author_facet |
Bondar, D.S. Maslov, V.I. Onishchenko, I.N. |
| topic |
Basic plasma physics |
| topic_facet |
Basic plasma physics |
| publishDate |
2022 |
| language |
English |
| container_title |
Problems of Atomic Science and Technology |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Моделювання кільватерного фокусування та самофокусування короткої послідовності електронних згустків у залежності від довжини, форми згустків та відстані між ними |
| description |
By using two-dimensional numerical simulation, the ratio between the effects of wakefield focusing and self-focusing during the propagation of a short sequence of electron bunches in plasma has been simulated. Cases of dominant wakefield focusing have been demonstrated. In addition, the collection data is presented on the parameters of the bunch length, shape and distance between bunches correspond to certain ratios of wakefield focusing and self-focusing that can be used in further studies.
За допомогою двовимірного чисельного моделювання змодельовано співвідношення між ефектами кільватерного фокусування та самофокусування при поширенні короткої послідовності електронних згустків у плазмі. Продемонстровані випадки домінуючого кільватерного фокусування. Крім того, представлені збірні дані про параметри довжини, форми згустку та відстані між згустками, що відповідають певним співвідношенням фокусування кільватерним полем та самофокусування, які можуть бути використані в подальших дослідженнях.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195882 |
| citation_txt |
Simulation of plasma wakefield focusing and self-focusing of a short sequence of electron bunches depending on the bunch length, shape and distance between bunches / ПІБ // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 36-39. — Бібліогр.: 14 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT bondards simulationofplasmawakefieldfocusingandselffocusingofashortsequenceofelectronbunchesdependingonthebunchlengthshapeanddistancebetweenbunches AT maslovvi simulationofplasmawakefieldfocusingandselffocusingofashortsequenceofelectronbunchesdependingonthebunchlengthshapeanddistancebetweenbunches AT onishchenkoin simulationofplasmawakefieldfocusingandselffocusingofashortsequenceofelectronbunchesdependingonthebunchlengthshapeanddistancebetweenbunches AT bondards modelûvannâkílʹvaternogofokusuvannâtasamofokusuvannâkorotkoíposlídovnostíelektronnihzgustkívuzaležnostívíddovžiniformizgustkívtavídstanímížnimi AT maslovvi modelûvannâkílʹvaternogofokusuvannâtasamofokusuvannâkorotkoíposlídovnostíelektronnihzgustkívuzaležnostívíddovžiniformizgustkívtavídstanímížnimi AT onishchenkoin modelûvannâkílʹvaternogofokusuvannâtasamofokusuvannâkorotkoíposlídovnostíelektronnihzgustkívuzaležnostívíddovžiniformizgustkívtavídstanímížnimi |
| first_indexed |
2025-12-07T17:07:58Z |
| last_indexed |
2025-12-07T17:07:58Z |
| _version_ |
1850870101409005568 |