Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
Evaporation of micro-droplets in an arc plasma flow under the action of a self-consistency electron beam and the condition of direct heating of micro-droplets by fast electrons are considered. It is shown that the plasma is heated under the influence of the beam, even taking into account the fact th...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Problems of Atomic Science and Technology |
|---|---|
| Datum: | 2022 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2022
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195893 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam / A.A. Goncharov, V.I. Maslov, I.V. Litovko, A. Ryabtsev // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 89-94. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862619479417028608 |
|---|---|
| author | Goncharov, A.A. Maslov, V.I. Litovko, I.V. Ryabtsev, A. |
| author_facet | Goncharov, A.A. Maslov, V.I. Litovko, I.V. Ryabtsev, A. |
| citation_txt | Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam / A.A. Goncharov, V.I. Maslov, I.V. Litovko, A. Ryabtsev // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 89-94. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Problems of Atomic Science and Technology |
| description | Evaporation of micro-droplets in an arc plasma flow under the action of a self-consistency electron beam and the condition of direct heating of micro-droplets by fast electrons are considered. It is shown that the plasma is heated under the influence of the beam, even taking into account the fact that the electrons and ions of the plasma lose energy for the evaporation of micro-droplets. It is demonstrated that small micro-droplets evaporate more intensively. It is shown that the plasma electron density should be optimal. For the destruction of macro-particles in a plasma with a higher concentration, more powerful beams are required than in a case of plasma with a lower concentration.
Розглядаються випаровування мікрокрапель у потоці дугової плазми під дією самоузгодженого електронного пучка та умова прямого нагріву мікрокрапель швидкими електронами. Показано, що плазма гріється під дією пучка, навіть з урахуванням того, що електрони і іони плазми втрачають енергію на випаровування мікрокрапель. Встановлено, що дрібні мікрокраплі випаровуються інтенсивніше. Показано, що має бути оптимальна щільність електронів плазми. Для руйнування макрочастинок у плазмі з більшою концентрацією потрібні потужніші пучки, ніж у плазмі з меншою концентрацією.
|
| first_indexed | 2025-12-07T13:17:22Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-195893 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T13:17:22Z |
| publishDate | 2022 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Goncharov, A.A. Maslov, V.I. Litovko, I.V. Ryabtsev, A. 2023-12-08T10:34:21Z 2023-12-08T10:34:21Z 2022 Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam / A.A. Goncharov, V.I. Maslov, I.V. Litovko, A. Ryabtsev // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 89-94. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 29.17.+w; 41.75.Lx DOI: https://doi.org/10.46813/2022-142-089 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195893 Evaporation of micro-droplets in an arc plasma flow under the action of a self-consistency electron beam and the condition of direct heating of micro-droplets by fast electrons are considered. It is shown that the plasma is heated under the influence of the beam, even taking into account the fact that the electrons and ions of the plasma lose energy for the evaporation of micro-droplets. It is demonstrated that small micro-droplets evaporate more intensively. It is shown that the plasma electron density should be optimal. For the destruction of macro-particles in a plasma with a higher concentration, more powerful beams are required than in a case of plasma with a lower concentration. Розглядаються випаровування мікрокрапель у потоці дугової плазми під дією самоузгодженого електронного пучка та умова прямого нагріву мікрокрапель швидкими електронами. Показано, що плазма гріється під дією пучка, навіть з урахуванням того, що електрони і іони плазми втрачають енергію на випаровування мікрокрапель. Встановлено, що дрібні мікрокраплі випаровуються інтенсивніше. Показано, що має бути оптимальна щільність електронів плазми. Для руйнування макрочастинок у плазмі з більшою концентрацією потрібні потужніші пучки, ніж у плазмі з меншою концентрацією. This work is supported partly by the. grant 1.4.B/191 and grant 2/2022-D from the Presidium of the NAS of Ukraine and, especially, by support project № PL-20-22 in frame of target program scientific research NASU “Plasma Physics and Plasma Electronics: fundamental research and applications for a 2020-2022”. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Problems of Atomic Science and Technology Low temperature plasma and plasma technologies Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam Формування електронного пучка і його роль у новій плазмооптичній системі для випаровування крапель у дуговій плазмі Article published earlier |
| spellingShingle | Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam Goncharov, A.A. Maslov, V.I. Litovko, I.V. Ryabtsev, A. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title | Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam |
| title_alt | Формування електронного пучка і його роль у новій плазмооптичній системі для випаровування крапель у дуговій плазмі |
| title_full | Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam |
| title_fullStr | Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam |
| title_full_unstemmed | Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam |
| title_short | Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam |
| title_sort | evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam |
| topic | Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet | Low temperature plasma and plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195893 |
| work_keys_str_mv | AT goncharovaa evaporationofmicrodropletsincathodearcplasmacoatingunderformedelectronbeam AT maslovvi evaporationofmicrodropletsincathodearcplasmacoatingunderformedelectronbeam AT litovkoiv evaporationofmicrodropletsincathodearcplasmacoatingunderformedelectronbeam AT ryabtseva evaporationofmicrodropletsincathodearcplasmacoatingunderformedelectronbeam AT goncharovaa formuvannâelektronnogopučkaíiogorolʹunovíiplazmooptičníisistemídlâviparovuvannâkrapelʹudugovíiplazmí AT maslovvi formuvannâelektronnogopučkaíiogorolʹunovíiplazmooptičníisistemídlâviparovuvannâkrapelʹudugovíiplazmí AT litovkoiv formuvannâelektronnogopučkaíiogorolʹunovíiplazmooptičníisistemídlâviparovuvannâkrapelʹudugovíiplazmí AT ryabtseva formuvannâelektronnogopučkaíiogorolʹunovíiplazmooptičníisistemídlâviparovuvannâkrapelʹudugovíiplazmí |