Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
Paper presents results of evaluation of the influence of the parameters of the additional anode electromagnetic trap for discharge electrons in a magnetron sputtering system. The efficiency of ionization processes is also investigated. It has been shown experimentally that a slight increase of the a...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Problems of Atomic Science and Technology |
|---|---|
| Дата: | 2022 |
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2022
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195896 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai, B.M. Kozhukhovskyi // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862736607750127616 |
|---|---|
| author | Chunadra, А.G. Sereda, К.N. Tarasov, I.K. Makhlai, V.A. Kozhukhovskyi, B.M. |
| author_facet | Chunadra, А.G. Sereda, К.N. Tarasov, I.K. Makhlai, V.A. Kozhukhovskyi, B.M. |
| citation_txt | Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai, B.M. Kozhukhovskyi // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Problems of Atomic Science and Technology |
| description | Paper presents results of evaluation of the influence of the parameters of the additional anode electromagnetic trap for discharge electrons in a magnetron sputtering system. The efficiency of ionization processes is also investigated. It has been shown experimentally that a slight increase of the additional anode magnetic field leads to an increase of plasma density in the discharge on several times. The presence of an anode electromagnetic trap causes additional ionization zones. An increase of anode magnetic field leads to an increase of the average energy of charged discharge plasma particles. As the result, it was observed an intensification of the target material sputtering process as well as an increase of coatings deposition rate. In addition, a slight increase in the magnitude of the anode magnetic field has a positive effect on the quality and purity of the deposited coatings.
Представлені результати оцінки впливу параметрів додаткової анодної електромагнітної пастки для розрядних електронів у системі магнетронного розпилення. Також досліджена ефективність процесів іонізації. Експериментально показано, що незначне збільшення додаткового анодного магнітного поля призводить до збільшення щільності плазми в розряді в кілька разів. Наявність анодної електромагнітної пастки викликає додаткові зони іонізації. Збільшення анодного магнітного поля призводить до збільшення середньої енергії заряджених частинок плазми розряду. У результаті спостерігалося посилення процесу розпилення матеріалу мішені, а також збільшення швидкості нанесення покриттів. Крім того, незначне збільшення величини анодного магнітного поля позитивно впливає на якість і чистоту нанесених покриттів.
|
| first_indexed | 2025-12-07T19:54:12Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-195896 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T19:54:12Z |
| publishDate | 2022 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Chunadra, А.G. Sereda, К.N. Tarasov, I.K. Makhlai, V.A. Kozhukhovskyi, B.M. 2023-12-08T10:57:53Z 2023-12-08T10:57:53Z 2022 Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai, B.M. Kozhukhovskyi // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 51.50.+v, 52.25.Jm DOI: https://doi.org/10.46813/2022-142-103 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195896 Paper presents results of evaluation of the influence of the parameters of the additional anode electromagnetic trap for discharge electrons in a magnetron sputtering system. The efficiency of ionization processes is also investigated. It has been shown experimentally that a slight increase of the additional anode magnetic field leads to an increase of plasma density in the discharge on several times. The presence of an anode electromagnetic trap causes additional ionization zones. An increase of anode magnetic field leads to an increase of the average energy of charged discharge plasma particles. As the result, it was observed an intensification of the target material sputtering process as well as an increase of coatings deposition rate. In addition, a slight increase in the magnitude of the anode magnetic field has a positive effect on the quality and purity of the deposited coatings. Представлені результати оцінки впливу параметрів додаткової анодної електромагнітної пастки для розрядних електронів у системі магнетронного розпилення. Також досліджена ефективність процесів іонізації. Експериментально показано, що незначне збільшення додаткового анодного магнітного поля призводить до збільшення щільності плазми в розряді в кілька разів. Наявність анодної електромагнітної пастки викликає додаткові зони іонізації. Збільшення анодного магнітного поля призводить до збільшення середньої енергії заряджених частинок плазми розряду. У результаті спостерігалося посилення процесу розпилення матеріалу мішені, а також збільшення швидкості нанесення покриттів. Крім того, незначне збільшення величини анодного магнітного поля позитивно впливає на якість і чистоту нанесених покриттів. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Problems of Atomic Science and Technology Low temperature plasma and plasma technologies Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system Вплив конфігурації і напруженості магнітного поля на параметри плазми та ефективність осадження покриттів в магнетронній розпорошувальній системі Article published earlier |
| spellingShingle | Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system Chunadra, А.G. Sereda, К.N. Tarasov, I.K. Makhlai, V.A. Kozhukhovskyi, B.M. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title | Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system |
| title_alt | Вплив конфігурації і напруженості магнітного поля на параметри плазми та ефективність осадження покриттів в магнетронній розпорошувальній системі |
| title_full | Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system |
| title_fullStr | Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system |
| title_full_unstemmed | Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system |
| title_short | Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system |
| title_sort | influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system |
| topic | Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet | Low temperature plasma and plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195896 |
| work_keys_str_mv | AT chunadraag influenceofmagneticfieldconfigurationandstrengthonplasmaparametersandefficiencyofcoatingsdepositioninmagnetronsputteringsystem AT seredakn influenceofmagneticfieldconfigurationandstrengthonplasmaparametersandefficiencyofcoatingsdepositioninmagnetronsputteringsystem AT tarasovik influenceofmagneticfieldconfigurationandstrengthonplasmaparametersandefficiencyofcoatingsdepositioninmagnetronsputteringsystem AT makhlaiva influenceofmagneticfieldconfigurationandstrengthonplasmaparametersandefficiencyofcoatingsdepositioninmagnetronsputteringsystem AT kozhukhovskyibm influenceofmagneticfieldconfigurationandstrengthonplasmaparametersandefficiencyofcoatingsdepositioninmagnetronsputteringsystem AT chunadraag vplivkonfíguracííínapruženostímagnítnogopolânaparametriplazmitaefektivnístʹosadžennâpokrittívvmagnetronníirozporošuvalʹníisistemí AT seredakn vplivkonfíguracííínapruženostímagnítnogopolânaparametriplazmitaefektivnístʹosadžennâpokrittívvmagnetronníirozporošuvalʹníisistemí AT tarasovik vplivkonfíguracííínapruženostímagnítnogopolânaparametriplazmitaefektivnístʹosadžennâpokrittívvmagnetronníirozporošuvalʹníisistemí AT makhlaiva vplivkonfíguracííínapruženostímagnítnogopolânaparametriplazmitaefektivnístʹosadžennâpokrittívvmagnetronníirozporošuvalʹníisistemí AT kozhukhovskyibm vplivkonfíguracííínapruženostímagnítnogopolânaparametriplazmitaefektivnístʹosadžennâpokrittívvmagnetronníirozporošuvalʹníisistemí |