Зображення обкладинки

Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system

Paper presents results of evaluation of the influence of the parameters of the additional anode electromagnetic trap for discharge electrons in a magnetron sputtering system. The efficiency of ionization processes is also investigated. It has been shown experimentally that a slight increase of the a...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в:	Problems of Atomic Science and Technology
Дата:	2022
ISSN:	1562-6016
Автори:	Chunadra, А.G., Sereda, К.N., Tarasov, I.K., Makhlai, V.A., Kozhukhovskyi, B.M.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2022
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195896
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai, B.M. Kozhukhovskyi // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)

Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)

Method for measuring external and internal parameters of plasma with ungrounded gas discharge electrodes
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Vacuum-arc equipment for ion-plasma deposition of coatings
за авторством: Aksenov, I.I., та інші
Опубліковано: (2000)

Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)

Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)

The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition
за авторством: Demchishin, A.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
за авторством: Koshevoy, K.I., та інші
Опубліковано: (2019)

Bone-like coatings deposition by using of modern pulsed ion-plasma technology
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)

Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)

Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)

The influence of surface parameters of coatings deposited by various vacuum-plasma methods on the cell/material interaction in vitro tests
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)

TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)

Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)

Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002)

Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)

Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)

Performance of thermal barrier coatings produced by smart plasma processing
за авторством: Kobayashi, Akira
Опубліковано: (2006)

Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)

The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)

Modification of coating-substrate systems under the action of compression plasma flow
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)

Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)

Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)

Structure and properties of the (Cr, Al)N coatings deposited by PIII&D method
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)

Nanostructured formations and coatings created on the surface of materials exposed to compression plasma flows
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)

Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)

Plasma deposited diamond-like carbon films for large neural arrays
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)

Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Application of coatings on inner surfaces of metallic and dielectric pipes with the use of HF -plasma source
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)