Electromagnetic dipolar modes in magnetized nonuniform plasma-vacuum-metal waveguide
This article presents the results of theoretical study of the phase and attenuation properties of the dipolar electromagnetic modes in cylindrical plasma-vacuum-metal waveguide structure. Plasma is described in hydrodynamic approach and is supposed to be slightly non-uniform in axial direction and s...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Problems of Atomic Science and Technology |
|---|---|
| Дата: | 2023 |
| Автори: | Azarenkov, N.A., Olefir, V.P., Sporov, A.E. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2023
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/196038 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Electromagnetic dipolar modes in magnetized nonuniform plasma-vacuum-metal waveguide / N.A. Azarenkov, V.P. Olefir, A.E. Sporov // Problems of Atomic Science and Technology. — 2023. — № 1. — С. 98-103. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Electromagnetic dipolar wave in magnetized non-uniform plasma column
за авторством: Olefir, V.P., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Olefir, V.P., та інші
Опубліковано: (2005)
The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)
Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002)
Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
Optimization of the magnetic system of a vacuum-arc plasma source with a straight line filter
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2021)
Nanotube formation on catalytic surface in plasma discharge
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
The influence of surface parameters of coatings deposited by various vacuum-plasma methods on the cell/material interaction in vitro tests
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)
Ion crystal formation in nonequilibrium dusty plasmas near electrode or electric probe
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Large-area surface wave plasma source
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)
Shock alloying of metals by cumulative plasma streams
за авторством: Ivanov, L.I., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Ivanov, L.I., та інші
Опубліковано: (2006)
Plasma of underwater electric discharges with metal vapors
за авторством: Boretskij, V.F., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Boretskij, V.F., та інші
Опубліковано: (2019)
Gas discharge in plasma-metal waveguide with varying radius of metal enclosure partially filled by radially non-uniform magnetized plasma
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2020)
Vaporization of metallic macroparticles in the high temperature technology plasma
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2016)
Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
Two-stream nonlinear langmuir oscillations
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
за авторством: Pugatch, V.M., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Pugatch, V.M., та інші
Опубліковано: (2007)
Tribological properties of vacuum arc Cr-O-N coatings in macro- and microscale
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2016)
Plasma-catalytic reforming of rich ethanol-air mixtures
за авторством: Fedirchyk, I.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Fedirchyk, I.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
Application of coatings on inner surfaces of metallic and dielectric pipes with the use of HF -plasma source
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)
Modulation of negatively charged particle flux from penning discharge with metal hydride cathode
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2023)
Eigen dipolar electromagnetic waves of coaxial plasma-metall waveguide structure with azimuth magnetic field
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2013)
Mechanisms affecting the speed and direction of vacuum arc cathode spots movement in a magnetic field
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2023)
Hardware-software complex for automated control and monitoring of the vacuum system of the coating setup "Bulat-6"
за авторством: Gubarev, S.P., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Gubarev, S.P., та інші
Опубліковано: (2019)
Erosion, permeation and outgassing performances of tin coating under/after hydrogen plasma iffadiation
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
Burning modes of a bipolar pulsed discharge in CO₂
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)
Reforming of ethanol in plasma-catalytic system with dc and ac rotating gliding discharge
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
Plasma sterilizer with ultrasonic cavitation
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
Peculiarities of properties of the pulse plasma jet
за авторством: Podzirey, Yu.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Podzirey, Yu.S., та інші
Опубліковано: (2016)
Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Specific of interaction of the macroparticles with the plasma-beam systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
Схожі ресурси
-
Electromagnetic dipolar wave in magnetized non-uniform plasma column
за авторством: Olefir, V.P., та інші
Опубліковано: (2005) -
The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003) -
Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002) -
Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008) -
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)