Some aspects of electrolytic-plasma processing technology

• Опубліковано в: : Problems of Atomic Science and Technology
• Дата: 2023
• Автори: Tarasov, I.K., Klosovskij, A.V., Taran, A.V., Romaniuk, S.P.
• Формат: Стаття
• Мова: Англійська
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2023
• Теми: Low temperature plasma and plasma technologies
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/196040
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Some aspects of electrolytic-plasma processing technology / I.K. Tarasov, A.V. Klosovskij, A.V. Taran, S.P. Romaniuk // Problems of Atomic Science and Technology. — 2023. — № 1. — С. 110-112. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

A technological device (pilot model) for electrolytic-plasma processing of various surfaces has been developed. Some theoretical calculations and processing recommendations have been done. This technology contributes to significant savings in human and energy resources and achieving the required surface quality of parts, and preliminary processing, and is very usefullbefore vacuum-arc deposition of protective coatings. Розроблено технологічний пристрій (дослідну модель) для електролітно-плазмової обробки різних поверхонь. Зроблено деякі теоретичні розрахунки та надано корисні рекомендації щодо процесу обробки. Ця технологія сприяє суттєвій економії людських та енергетичних ресурсів і досягненню необхідної якості поверхні деталей, попередньої обробки, а також є дуже корисною перед вакуумно-дуговим напиленням захисних покриттів.