Bombardment of the surface by a low-energy ion flow accelerated in the near-surface layer of the space charge

The paper presents a method for the formation of low-energy ion flow for creation and treatment of functional coatings without radiation damage. Plasma source based in arc discharge with filament cathode creates the primary plasma in the volume of vacuum chamber where the treated sample is placed. T...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Problems of Atomic Science and Technology
Date:2023
Main Authors: Hrechkо, Ya., Babenko, Ie., Sereda, I., Azarenkov, N.
Format: Article
Language:English
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2023
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/196047
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Bombardment of the surface by a low-energy ion flow accelerated in the near-surface layer of the space charge / Ya. Hrechkо, Ie. Babenko, I. Sereda , N. Azarenkov // Problems of Atomic Science and Technology. — 2023. — № 1. — С. 47-50. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Description
Summary:The paper presents a method for the formation of low-energy ion flow for creation and treatment of functional coatings without radiation damage. Plasma source based in arc discharge with filament cathode creates the primary plasma in the volume of vacuum chamber where the treated sample is placed. The formation of low-energy ion flow takes place in the layer of space charge near the samples surface. The behavior of the ion current density depending on the potential drop in the layer has been studied for various experimental parameters and conditions. The sample surface treatment by low-energy ion flow has been also evaluated. Представлено спосіб формування низькоенергетичного потоку іонів для створення та обробки функціональних покриттів без радіаційних пошкоджень. Джерело плазми на основі дугового розряду з катодом розжарення створює первинну плазму в об’ємі вакуумної камери, де розміщується зразок, що обробляється. Формування низькоенергетичного потоку іонів здійснюється у шарі просторового заряду біля поверхні зразків. Досліджено поведінку густини іонного струму в залежності від падіння потенціалу в шарі для різних експериментальних параметрів і умов. Також було оцінено обробку поверхні зразка потоком низькоенергетичних іонів.
ISSN:1562-6016