Two stage plasma source for large scale beam generation
The operation of a cylindrical plasma accelerator with an anode layer in the mode of ion space charge accumulation and the use of an ion flow accelerated by a space charge is investigated. In particular, the presence of high voltage and diffusion modes with the formation of a secondary flow has been...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Problems of Atomic Science and Technology |
|---|---|
| Дата: | 2023 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2023
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/196188 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Two stage plasma source for large scale beam generation / V.Yu. Bazhenov, A.M. Dobrovolskiy, V.V. Tsiolko, V.M. Piun // Problems of Atomic Science and Technology. — 2023. — № 4. — С. 121-125. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | The operation of a cylindrical plasma accelerator with an anode layer in the mode of ion space charge accumulation and the use of an ion flow accelerated by a space charge is investigated. In particular, the presence of high voltage and diffusion modes with the formation of a secondary flow has been established. The output plasma flow current can reach 70% of the discharge current on the anode layer. The relationship between the connection scheme of the additional independent cathode and the plasma source parameters is shown.
Досліджено роботу циліндричного плазмового прискорювача з анодним шаром у режимі накопичення об’ємного заряду іонів та використання потоку іонів, прискореного об’ємним зарядом. Зокрема, встановлено наявність високовольтного та дифузійного режимів з утворенням вторинного потоку. Струм вихідного плазмового потоку може сягати 70% розрядного струму на анодному шарі. Показано зв’язок між схемою підключення додаткового незалежного катодa та параметрами плазмового джерела.
|
|---|---|
| ISSN: | 1562-6016 |