Application features of the electrostatic systems for measuring the secondary electron emission yield
The analysis of the experimental systems for research of secondary electron emission during the interaction of electron beams with matter is presented. The three most common and methodologically developed variants of exper-imental systems are considered. According to their design features and method...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Problems of Atomic Science and Technology |
|---|---|
| Дата: | 2023 |
| Автори: | , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2023
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/196202 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Application features of the electrostatic systems for measuring the secondary electron emission yield / S. Karpus, I. Shliahov, M. Liashchov, V. Borisenko, S. Kochetov, E. Tsiats’ko, O. Shopen // Problems of Atomic Science and Technology. — 2023. — № 4. — С. 184-189. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-196202 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Karpus, S. Shliahov, I. Liashchov, M. Borisenko, V. Kochetov, S. Tsiats’ko, E. Shopen, O. 2023-12-11T12:41:26Z 2023-12-11T12:41:26Z 2023 Application features of the electrostatic systems for measuring the secondary electron emission yield / S. Karpus, I. Shliahov, M. Liashchov, V. Borisenko, S. Kochetov, E. Tsiats’ko, O. Shopen // Problems of Atomic Science and Technology. — 2023. — № 4. — С. 184-189. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 41.85.Qg, 84.37.q, 79.20.Hx, 84.37.q DOI: https://doi.org/10.46813/2023-146-184 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/196202 The analysis of the experimental systems for research of secondary electron emission during the interaction of electron beams with matter is presented. The three most common and methodologically developed variants of exper-imental systems are considered. According to their design features and methodological capabilities, they allow for the study of the main parameters of secondary emission depending on the primary electron beam energy and the sample thickness. The evolution of the experimental measuring systems and their improvement from simple to three-electrode systems with pass-through collectors is considered too. The peculiarities of registration of the sec-ondary electrons current emitted from the studied target surface depending on the structural features of the target device are considered too. Application results of the developed three-electrode measuring system for research thin foil emission characteristics have been discussed. Проведено аналіз експериментальних систем дослідження вторинної електронної емісії при взаємодії електронних пучків з речовиною. Розглянуто три найбільш поширені та методологічно розроблені варіанти експериментальних систем. За своїми конструктивними особливостями та методичними можливостями вони дозволяють досліджувати основні параметри вторинної емісії залежно від енергії первинного електронного пучка та товщини зразка. Розглянуто еволюцію експериментальних вимірювальних систем та їх удосконалення від простих до триелектродних систем з прохідними колекторами. Розглянуто також особливості реєстрації струму вторинних електронів у залежності від конструктивних особливостей пристрою мішені. Обговорено результати застосування розробленої триелектродної вимірювальної системи для дослідження емісійних характеристик вторинних електронів з тонкої плівки. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Problems of Atomic Science and Technology Applications and technologies Application features of the electrostatic systems for measuring the secondary electron emission yield Особливості застосування електростатичних систем для вимірювання виходу вторинної електронної емісії Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Application features of the electrostatic systems for measuring the secondary electron emission yield |
| spellingShingle |
Application features of the electrostatic systems for measuring the secondary electron emission yield Karpus, S. Shliahov, I. Liashchov, M. Borisenko, V. Kochetov, S. Tsiats’ko, E. Shopen, O. Applications and technologies |
| title_short |
Application features of the electrostatic systems for measuring the secondary electron emission yield |
| title_full |
Application features of the electrostatic systems for measuring the secondary electron emission yield |
| title_fullStr |
Application features of the electrostatic systems for measuring the secondary electron emission yield |
| title_full_unstemmed |
Application features of the electrostatic systems for measuring the secondary electron emission yield |
| title_sort |
application features of the electrostatic systems for measuring the secondary electron emission yield |
| author |
Karpus, S. Shliahov, I. Liashchov, M. Borisenko, V. Kochetov, S. Tsiats’ko, E. Shopen, O. |
| author_facet |
Karpus, S. Shliahov, I. Liashchov, M. Borisenko, V. Kochetov, S. Tsiats’ko, E. Shopen, O. |
| topic |
Applications and technologies |
| topic_facet |
Applications and technologies |
| publishDate |
2023 |
| language |
English |
| container_title |
Problems of Atomic Science and Technology |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Особливості застосування електростатичних систем для вимірювання виходу вторинної електронної емісії |
| description |
The analysis of the experimental systems for research of secondary electron emission during the interaction of electron beams with matter is presented. The three most common and methodologically developed variants of exper-imental systems are considered. According to their design features and methodological capabilities, they allow for the study of the main parameters of secondary emission depending on the primary electron beam energy and the sample thickness. The evolution of the experimental measuring systems and their improvement from simple to three-electrode systems with pass-through collectors is considered too. The peculiarities of registration of the sec-ondary electrons current emitted from the studied target surface depending on the structural features of the target device are considered too. Application results of the developed three-electrode measuring system for research thin foil emission characteristics have been discussed.
Проведено аналіз експериментальних систем дослідження вторинної електронної емісії при взаємодії електронних пучків з речовиною. Розглянуто три найбільш поширені та методологічно розроблені варіанти експериментальних систем. За своїми конструктивними особливостями та методичними можливостями вони дозволяють досліджувати основні параметри вторинної емісії залежно від енергії первинного електронного пучка та товщини зразка. Розглянуто еволюцію експериментальних вимірювальних систем та їх удосконалення від простих до триелектродних систем з прохідними колекторами. Розглянуто також особливості реєстрації струму вторинних електронів у залежності від конструктивних особливостей пристрою мішені. Обговорено результати застосування розробленої триелектродної вимірювальної системи для дослідження емісійних характеристик вторинних електронів з тонкої плівки.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/196202 |
| citation_txt |
Application features of the electrostatic systems for measuring the secondary electron emission yield / S. Karpus, I. Shliahov, M. Liashchov, V. Borisenko, S. Kochetov, E. Tsiats’ko, O. Shopen // Problems of Atomic Science and Technology. — 2023. — № 4. — С. 184-189. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT karpuss applicationfeaturesoftheelectrostaticsystemsformeasuringthesecondaryelectronemissionyield AT shliahovi applicationfeaturesoftheelectrostaticsystemsformeasuringthesecondaryelectronemissionyield AT liashchovm applicationfeaturesoftheelectrostaticsystemsformeasuringthesecondaryelectronemissionyield AT borisenkov applicationfeaturesoftheelectrostaticsystemsformeasuringthesecondaryelectronemissionyield AT kochetovs applicationfeaturesoftheelectrostaticsystemsformeasuringthesecondaryelectronemissionyield AT tsiatskoe applicationfeaturesoftheelectrostaticsystemsformeasuringthesecondaryelectronemissionyield AT shopeno applicationfeaturesoftheelectrostaticsystemsformeasuringthesecondaryelectronemissionyield AT karpuss osoblivostízastosuvannâelektrostatičnihsistemdlâvimírûvannâvihoduvtorinnoíelektronnoíemísíí AT shliahovi osoblivostízastosuvannâelektrostatičnihsistemdlâvimírûvannâvihoduvtorinnoíelektronnoíemísíí AT liashchovm osoblivostízastosuvannâelektrostatičnihsistemdlâvimírûvannâvihoduvtorinnoíelektronnoíemísíí AT borisenkov osoblivostízastosuvannâelektrostatičnihsistemdlâvimírûvannâvihoduvtorinnoíelektronnoíemísíí AT kochetovs osoblivostízastosuvannâelektrostatičnihsistemdlâvimírûvannâvihoduvtorinnoíelektronnoíemísíí AT tsiatskoe osoblivostízastosuvannâelektrostatičnihsistemdlâvimírûvannâvihoduvtorinnoíelektronnoíemísíí AT shopeno osoblivostízastosuvannâelektrostatičnihsistemdlâvimírûvannâvihoduvtorinnoíelektronnoíemísíí |
| first_indexed |
2025-12-07T20:28:12Z |
| last_indexed |
2025-12-07T20:28:12Z |
| _version_ |
1850882698722148352 |