Reduction of reverse leakage current at the TiO₂/GaN interface in field plate Ni/Au/-GaN Schottky diodes
This paper presents the fabrication procedure of a TiO₂ passivated field plate Schottky diode and gives a comparison of Ni/Au/-GaN Schottky barrier diodes without a field plate and with a field plate of varying diameters from 50 to 300 µm. The influence of field oxide (TiO₂) on the leakage current o...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
|---|---|
| Дата: | 2021 |
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2021
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/216298 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Reduction of reverse leakage current at the TiO₂/GaN interface in field plate Ni/Au/-GaN Schottky diodes / B.N. Shashikala, B.S. Nagabhushana // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2021. — Т. 24, № 4. — С. 399-406. — Бібліогр.: 27 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | This paper presents the fabrication procedure of a TiO₂ passivated field plate Schottky diode and gives a comparison of Ni/Au/-GaN Schottky barrier diodes without a field plate and with a field plate of varying diameters from 50 to 300 µm. The influence of field oxide (TiO₂) on the leakage current of Ni/Au/-GaN Schottky diode was investigated. This suggests that the TiO₂ passivated structure reduces the reverse leakage current of the Ni/Au/-GaN Schottky diode. Also, the reverse leakage current of Ni/Au/-GaN Schottky diodes decreases as the field plate length increases. The temperature-dependent electrical characteristics of TiO₂ passivated field plate Ni/Au/-GaN Schottky diodes have shown an increase of barrier height within the temperature range 300…475 K.
Наведено процедуру виготовлення діода Шотткі з охоронним кільцем з пасивуючим шаром TiO₂, а також порівняно бар’єрні діоди Шотткі Ni/Au/-GaN без охоронного кільця та з ним різних діаметрів від 50 до 300 мкм. Досліджено вплив пасивуючого оксиду (TiO₂) на струм витоку у діоді Шотткі Ni/Au/-GaN. Це свідчить про те, що пасивуюча TiO₂ структура зменшує зворотний струм витоку у діоді Шотткі Ni/Au/-GaN. Також зворотний струм витоку у діодах Шотткі Ni/Au/n-GaN зменшується із збільшенням розмірів охоронного кільця. Температурно-залежні електричні характеристики діодів Шотткі Ni/Au/n-GaN з охоронним кільцем з пасивуючим шаром TiO₂ показали збільшення висоти бар’єра в діапазоні температур 300–475 K.
|
|---|---|
| ISSN: | 1560-8034 |