Установка для прецизійного іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок

• Опубліковано в: : Наука та інновації
• Дата: 2009
• Автори: Руденко, Е.М., Короташ, І.В., Семенюк, В.Ф., Шамрай, К.П.
• Формат: Стаття
• Мова: Ukrainian
• Опубліковано: Видавничий дім "Академперіодика" НАН України 2009
• Теми: Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
• Онлайн доступ: http:/dspace/handle/123456789/27892
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Установка для прецизійного іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок / Е.М. Руденко, І.В. Короташ, В.Ф. Семенюк, К.П. Шамрай // Наука та інновації. — 2009. — Т. 5, № 5. — С. 5-8. — Бібліогр.: 3 назв. — укр.

Створена установка для іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок та інших наноструктур. Установка містить високовакуумну систему відкачки, систему напуску робочих газів, камеру геліконного розряду, камеру дрейфа, вакуумно-дугові джерела, джерела живлення та систему контролю з малогабаритним оптичним спектрометром. Установка інтегрує процеси плазмово-стимульованого хімічного парофазного осадження, очищення та активації поверхні підкладки у плазмі розряду, нанесення перехідних адгезійних шарів та шарів металу-каталізатора, а також процес безпосереднього формування вуглецевих наноструктур. Создана установка для ионно-плазменного формирования углеродных нанотрубок и других наноструктур. Установка содержит высоковакуумную систему откачки, систему напуска рабочих газов, камеру геликонного разряда, камеру дрейфа, вакуумно-дуговые источники, источники пи тания и систему контроля с малогабаритным оптическим спектрометром. Установка интегрирует процессы плазменно-стимулированного химического парофазного осаждения, очистки и активации поверхности подложки в плазме разряда, нанесения переходных адгезионных слоев и металла-катализатора, а также процесс непосредственного формирования углеродных наноструктур. The plant for ionic-plasma formation carbon nanotubes and other nanostructures is created. The plant contains highvacuum-pump system, working gases letting system, helicon discharge chamber, drift chamber, vacuum-arc sources, power sources and monitoring system with a small-sized optical spectrometer. The plant integrates processes plasma-enhanced chemical vapour-phase deposition, plasma clearing and activation of a substrate surface, deposition of transitive adhesive layers and metal-catalyst, direct formation process of carbon nanostructure.