Вакуумно-плазмовий модуль для формування структур елементної бази наноелектроніки та мікроенергетики

• Veröffentlicht in: Наука та інновації
• Datum: 2010
• Hauptverfasser: Руденко, Е.М., Короташ, І.В., Семенюк, В.Ф., Шамрай, К.П.
• Format: Artikel
• Sprache: Ukrainian
• Veröffentlicht: Видавничий дім "Академперіодика" НАН України 2010
• Schlagworte: Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/28110
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Вакуумно-плазмовий модуль для формування структур елементної бази наноелектроніки та мікроенергетики / Е.М. Руденко, І.В. Короташ, В.Ф. Семенюк, К.П. // Наука та інновації. — 2010. — Т. 6, № 3. — С. 36-38. — Бібліогр.: 3 назв. — укр.

Створено вакуумно-плазмовий модуль – спеціалізовану технологічну установку прецизійного розмірного травлення та багатофункціональної іонно-плазмової обробки. Модуль базується на дворозрядній системі, що складається з джерел високоселективного плазмохімічного та високоанізотропного реактивно-іонного травлення. Установка призначена для формування структур елементної бази наноелектроніки та топології наноприладів, термоемісійних джерел, елементів перетворення сонячної та теплової енергії в електричну. Создан вакуумно-плазменный модуль — специализированная технологическая установка прецизионного размерного травления и многофункциональной ионноплазменной обработки. В основу установки положена двухразрядная система, состоящая из источника высокоселективного плазмохимического травления и источника высокоанизотропного реактивно-ионного травления. Установка предназначена для формирования структур элементной базы наноэлектроники и топологии наноприборов, термоэмиссионных источников, элементов преобразования солнечной и тепловой энергии в электрическую. The vacuum-plasma module — specialized technological unit of precision size etching and multifunction ion-plasma treatment is created. It is based on the two-figure system, consisting of high selective plasma-chemical and high anisotropic reactively-ionic etch sources. The module is intended for the forming of structure element base of nanoelectronics and nanodevice topology, thermal emission sources, elements converting sun and thermal energy into electrical energy.