Влияние поверхности на перенос заряда в тонких металлических пленках на основе непереходных металлов
Обсуждается проблема создания сверхтонких (толщина слоя от 2 до 5 нм) электрически сплошных проводящих стабильных слоев металлов и исследования их электрических свойств. Рассмотрена возможность применения сурфактантных подслоев для предотвращения коагуляции зародышей кристаллизации в процессе роста...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Хімія, фізика та технологія поверхні |
|---|---|
| Дата: | 2010 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
2010
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/28970 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Влияние поверхности на перенос заряда в тонких металлических пленках на основе непереходных металлов / Р.И. Бигун, З.В. Стасюк, М.Ю. Барабаш, Ю.А. Куницкий // Хімія, фізика та технологія поверхні. — 2010. — Т. 1, № 2. — С. 128-137. — Бібліогр.: 50 назв. — рос. |