Процеси швидкісного змочування та розтікання у системі адгезійно-активний металічний розплав — нітрид кремнію
Наведено результати експериментального дослідження методом високошвидкісної профільної кінозйомки (до 5000 кадр/с) у вакуумі при 1000°C кінетики змочування та розтікання розплаву Cu—Sn—Ti по поверхнях керамічних матеріалів із нітриду кремнію Si3N4.------------------------------------ The wetting...
Збережено в:
| Дата: | 2008 |
|---|---|
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Ukrainian |
| Опубліковано: |
Інститут проблем матеріалознавства ім. І. М. Францевича НАН України
2008
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/4370 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Процеси швидкісного змочування та розтікання у системі адгезійно-активний металічний розплав — нітрид кремнію / М.Ф. Григоренко, В.В. Полуянська, Є.П. Черніговцев // Адгезия расплавов и пайка материалов. — 2008. — № 41. — С. 3-8. — Бібліогр.: 13 назв. — укр. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | Наведено результати експериментального дослідження методом високошвидкісної
профільної кінозйомки (до 5000 кадр/с) у вакуумі при 1000°C кінетики змочування та
розтікання розплаву Cu—Sn—Ti по поверхнях керамічних матеріалів із нітриду
кремнію Si3N4.------------------------------------
The wetting and spreading kinetics of Cu—Sn—Ti melt over silicon nitride
surfaces was studied by means of a high-speed profile filming (up to
5000 frames/s) in a vacuum at 1000°C.
|
|---|---|
| ISSN: | 0136-1732 |