Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії

Представлено результати аналізу властивостей фоточутливих матеріалів з нелінійною експозиційною характеристикою. Показано, що існує низка фото(термо)чутливих матеріалів, що дозволяють реєструвати зображення, розміри елементів яких менте діаметра експонуючого променя. Представлено результати лазерног...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Реєстрація, зберігання і обробка даних
Datum:2012
ISSN:1560-9189
Hauptverfasser: Крючин, А.А., Рубіш, В.М., Костюкевич, С.О., Мінько, В.І., Шепелявий, П.Є., Лисюк, В.О., Костюкевич, К.В., Сурмач, М.А.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainisch
Veröffentlicht: Інститут проблем реєстрації інформації НАН України 2012
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/50580
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії / А.А. Крючин, В.М. Рубіш, С.О. Костюкевич, В.І. Мінько, П.Є. Шепелявий, В.О. Лисюк, К.В. Костюкевич, М.А. Сурмач // Реєстрація, зберігання і оброб. даних. — 2012. — Т. 14, № 3. — С. 3-11. — Бібліогр.: 21 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Beschreibung
Zusammenfassung:Представлено результати аналізу властивостей фоточутливих матеріалів з нелінійною експозиційною характеристикою. Показано, що існує низка фото(термо)чутливих матеріалів, що дозволяють реєструвати зображення, розміри елементів яких менте діаметра експонуючого променя. Представлено результати лазерного запису на неорганічних фоторезистах. The results of analysis on the photosensitive properties of materials with nonlinear exposition characteristic have been performed. It is shown that some photo(thermo)sensitive materials allow to register the image of elements having sizes less than the diameter of exposing beam. The results of laser writing to inorganic photoresists are presented.
ISSN:1560-9189