Система искусственного интеллекта для технической диагностики фотошаблонов
Разработанная система имеет высокий уровень помехоустойчивости, поэтому ее включение в состав программно-аппаратного комплекса для технической диагностики фотошаблонов позволит уменьшить требования к его аппаратному исполнению, т. е. снизить стоимость комплекса, а в результате — сделать рентабельным...
Saved in:
| Published in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Date: | 2012 |
| Main Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2012
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51641 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Система искусственного интеллекта для технической диагностики фотошаблонов / Ю.Ю. Козина, А.А. Козин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 1. — С. 7-9. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Summary: | Разработанная система имеет высокий уровень помехоустойчивости, поэтому ее включение в состав программно-аппаратного комплекса для технической диагностики фотошаблонов позволит уменьшить требования к его аппаратному исполнению, т. е. снизить стоимость комплекса, а в результате — сделать рентабельным мелкосерийное производство изделий.
Розроблена система штучного інтелекту має високий рівень завадостійкості, тому її включення до складу програмно-апаратного комплексу для технічної діагностики фотошаблонів дозволить зменшити вимоги до його апаратного виконання, тобто знизити вартість комплексу, а в результаті — зробити рентабельним дрібносерійне виробництво виробів.
The developed artificial intelligence system has a high level of noise immunity, so its inclusion in the hardware and software for technical diagnostics of photomasks will reduce the hardware requirements for its execution, and thereby reduce the cost of the complex. As a result it will allow to make a small-scale production profitable.
|
|---|---|
| ISSN: | 2225-5818 |