Бобренко, Ю., Комащенко, В., Ярошенко, Н., Шереметова, Г., & Атдаев, Б. (2012). Влияние распределения примеси в базе на фотоэлектрические свойства поверхностно-барьерных УФ-фотоприемников. Технология и конструирование в электронной аппаратуре.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Бобренко, Ю.Н, В.Н Комащенко, Н.В Ярошенко, Г.И Шереметова, та Б.С Атдаев. "Влияние распределения примеси в базе на фотоэлектрические свойства поверхностно-барьерных УФ-фотоприемников." Технология и конструирование в электронной аппаратуре 2012.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Бобренко, Ю.Н, et al. "Влияние распределения примеси в базе на фотоэлектрические свойства поверхностно-барьерных УФ-фотоприемников." Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2012.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.