Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»

Представлены результаты исследования воздействия атомарного водорода на структуры Cu—Ge, Ni—Ge. Экспериментально показано, что обработка структур при комнатной температуре сопровождается внедрением атомов металла с аномально высокой концентрацией в приповерхностные слои толщиной до 1 мкм. Рассмотрен...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Date:2012
Main Authors: Матюшин, В.М., Жавжаров, Е.Л.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2012
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51725
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник» / В.М. Матюшин, Е.Л. Жавжаров // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 6. — С. 44-48. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-51725
record_format dspace
spelling Матюшин, В.М.
Жавжаров, Е.Л.
2013-12-07T15:01:12Z
2013-12-07T15:01:12Z
2012
Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник» / В.М. Матюшин, Е.Л. Жавжаров // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 6. — С. 44-48. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51725
621.382
Представлены результаты исследования воздействия атомарного водорода на структуры Cu—Ge, Ni—Ge. Экспериментально показано, что обработка структур при комнатной температуре сопровождается внедрением атомов металла с аномально высокой концентрацией в приповерхностные слои толщиной до 1 мкм. Рассмотренный процесс может быть использован для создания омических контактов полупроводниковых устрой
У роботі представлено результати експериментального та теоретичного дослідження впливу атомарного водню на структури Cu—Ge, Ni—Ge. Експериментально показано, що обробка структур при кімнатних температурах супроводжується проникненням атомів металу з аномально високою концентрацією в приповерхневі шари товщиною до 1 мкм.
The article presents experimental results of the effect atomic hydrogen has on the Cu—Ge and Ni—Ge structures. It has been shown experimentally that the treatment of structures at room temperature is accompanied by the introduction of metal atoms with an abnormally high concentration in the surface layers of thickness up to 1 mm.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Материалы электроники
Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
Стимульована воднем міграція атомів металів в структурах «метал напівпровідник»
Hydrogen-stimulated migration of metal atoms in "metal-semiconductor" structures
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
spellingShingle Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
Матюшин, В.М.
Жавжаров, Е.Л.
Материалы электроники
title_short Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
title_full Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
title_fullStr Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
title_full_unstemmed Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
title_sort стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
author Матюшин, В.М.
Жавжаров, Е.Л.
author_facet Матюшин, В.М.
Жавжаров, Е.Л.
topic Материалы электроники
topic_facet Материалы электроники
publishDate 2012
language Russian
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
format Article
title_alt Стимульована воднем міграція атомів металів в структурах «метал напівпровідник»
Hydrogen-stimulated migration of metal atoms in "metal-semiconductor" structures
description Представлены результаты исследования воздействия атомарного водорода на структуры Cu—Ge, Ni—Ge. Экспериментально показано, что обработка структур при комнатной температуре сопровождается внедрением атомов металла с аномально высокой концентрацией в приповерхностные слои толщиной до 1 мкм. Рассмотренный процесс может быть использован для создания омических контактов полупроводниковых устрой У роботі представлено результати експериментального та теоретичного дослідження впливу атомарного водню на структури Cu—Ge, Ni—Ge. Експериментально показано, що обробка структур при кімнатних температурах супроводжується проникненням атомів металу з аномально високою концентрацією в приповерхневі шари товщиною до 1 мкм. The article presents experimental results of the effect atomic hydrogen has on the Cu—Ge and Ni—Ge structures. It has been shown experimentally that the treatment of structures at room temperature is accompanied by the introduction of metal atoms with an abnormally high concentration in the surface layers of thickness up to 1 mm.
issn 2225-5818
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51725
citation_txt Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник» / В.М. Матюшин, Е.Л. Жавжаров // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 6. — С. 44-48. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT matûšinvm stimuliruemaâvodorodommigraciâatomovmetallovvstrukturahmetallpoluprovodnik
AT žavžarovel stimuliruemaâvodorodommigraciâatomovmetallovvstrukturahmetallpoluprovodnik
AT matûšinvm stimulʹovanavodnemmígracíâatomívmetalívvstrukturahmetalnapívprovídnik
AT žavžarovel stimulʹovanavodnemmígracíâatomívmetalívvstrukturahmetalnapívprovídnik
AT matûšinvm hydrogenstimulatedmigrationofmetalatomsinmetalsemiconductorstructures
AT žavžarovel hydrogenstimulatedmigrationofmetalatomsinmetalsemiconductorstructures
first_indexed 2025-12-01T14:34:00Z
last_indexed 2025-12-01T14:34:00Z
_version_ 1850860412060303361