Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»

Представлены результаты исследования воздействия атомарного водорода на структуры Cu—Ge, Ni—Ge. Экспериментально показано, что обработка структур при комнатной температуре сопровождается внедрением атомов металла с аномально высокой концентрацией в приповерхностные слои толщиной до 1 мкм. Рассмотрен...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Дата:2012
Автори: Матюшин, В.М., Жавжаров, Е.Л.
Формат: Стаття
Мова:Російська
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2012
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51725
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник» / В.М. Матюшин, Е.Л. Жавжаров // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 6. — С. 44-48. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862648305776852992
author Матюшин, В.М.
Жавжаров, Е.Л.
author_facet Матюшин, В.М.
Жавжаров, Е.Л.
citation_txt Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник» / В.М. Матюшин, Е.Л. Жавжаров // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 6. — С. 44-48. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Представлены результаты исследования воздействия атомарного водорода на структуры Cu—Ge, Ni—Ge. Экспериментально показано, что обработка структур при комнатной температуре сопровождается внедрением атомов металла с аномально высокой концентрацией в приповерхностные слои толщиной до 1 мкм. Рассмотренный процесс может быть использован для создания омических контактов полупроводниковых устрой У роботі представлено результати експериментального та теоретичного дослідження впливу атомарного водню на структури Cu—Ge, Ni—Ge. Експериментально показано, що обробка структур при кімнатних температурах супроводжується проникненням атомів металу з аномально високою концентрацією в приповерхневі шари товщиною до 1 мкм. The article presents experimental results of the effect atomic hydrogen has on the Cu—Ge and Ni—Ge structures. It has been shown experimentally that the treatment of structures at room temperature is accompanied by the introduction of metal atoms with an abnormally high concentration in the surface layers of thickness up to 1 mm.
first_indexed 2025-12-01T14:34:00Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-51725
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 2225-5818
language Russian
last_indexed 2025-12-01T14:34:00Z
publishDate 2012
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling Матюшин, В.М.
Жавжаров, Е.Л.
2013-12-07T15:01:12Z
2013-12-07T15:01:12Z
2012
Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник» / В.М. Матюшин, Е.Л. Жавжаров // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 6. — С. 44-48. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51725
621.382
Представлены результаты исследования воздействия атомарного водорода на структуры Cu—Ge, Ni—Ge. Экспериментально показано, что обработка структур при комнатной температуре сопровождается внедрением атомов металла с аномально высокой концентрацией в приповерхностные слои толщиной до 1 мкм. Рассмотренный процесс может быть использован для создания омических контактов полупроводниковых устрой
У роботі представлено результати експериментального та теоретичного дослідження впливу атомарного водню на структури Cu—Ge, Ni—Ge. Експериментально показано, що обробка структур при кімнатних температурах супроводжується проникненням атомів металу з аномально високою концентрацією в приповерхневі шари товщиною до 1 мкм.
The article presents experimental results of the effect atomic hydrogen has on the Cu—Ge and Ni—Ge structures. It has been shown experimentally that the treatment of structures at room temperature is accompanied by the introduction of metal atoms with an abnormally high concentration in the surface layers of thickness up to 1 mm.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Материалы электроники
Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
Стимульована воднем міграція атомів металів в структурах «метал напівпровідник»
Hydrogen-stimulated migration of metal atoms in "metal-semiconductor" structures
Article
published earlier
spellingShingle Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
Матюшин, В.М.
Жавжаров, Е.Л.
Материалы электроники
title Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
title_alt Стимульована воднем міграція атомів металів в структурах «метал напівпровідник»
Hydrogen-stimulated migration of metal atoms in "metal-semiconductor" structures
title_full Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
title_fullStr Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
title_full_unstemmed Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
title_short Стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
title_sort стимулируемая водородом миграция атомов металлов в структурах «металл — полупроводник»
topic Материалы электроники
topic_facet Материалы электроники
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51725
work_keys_str_mv AT matûšinvm stimuliruemaâvodorodommigraciâatomovmetallovvstrukturahmetallpoluprovodnik
AT žavžarovel stimuliruemaâvodorodommigraciâatomovmetallovvstrukturahmetallpoluprovodnik
AT matûšinvm stimulʹovanavodnemmígracíâatomívmetalívvstrukturahmetalnapívprovídnik
AT žavžarovel stimulʹovanavodnemmígracíâatomívmetalívvstrukturahmetalnapívprovídnik
AT matûšinvm hydrogenstimulatedmigrationofmetalatomsinmetalsemiconductorstructures
AT žavžarovel hydrogenstimulatedmigrationofmetalatomsinmetalsemiconductorstructures