Роль пластической деформации в получении нанокремния

В результате высокотемпературного окисления Si в приповерхностных слоях образуется сложная дефектная область. Стравливание SiO₂ и обработка поверхности избирательными травителями позволяет получать наноструктурированный Si с заданной топологией. Показано якісний і кількісний аналіз зв'язку плас...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Дата:2011
Автори: Смынтына, В.А., Кулинич, О.А., Яцунский, И.Р., Марчук, И.А.
Формат: Стаття
Мова:Російська
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2011
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51758
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Роль пластической деформации в получении нанокремния / В.А. Смынтына, О.А. Кулинич, И.Р. Яцунский, И.А. Марчук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2011. — № 1-2. — С. 22-24. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862719096415584256
author Смынтына, В.А.
Кулинич, О.А.
Яцунский, И.Р.
Марчук, И.А.
author_facet Смынтына, В.А.
Кулинич, О.А.
Яцунский, И.Р.
Марчук, И.А.
citation_txt Роль пластической деформации в получении нанокремния / В.А. Смынтына, О.А. Кулинич, И.Р. Яцунский, И.А. Марчук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2011. — № 1-2. — С. 22-24. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description В результате высокотемпературного окисления Si в приповерхностных слоях образуется сложная дефектная область. Стравливание SiO₂ и обработка поверхности избирательными травителями позволяет получать наноструктурированный Si с заданной топологией. Показано якісний і кількісний аналіз зв'язку пластичної деформації поверхні і приповерхневої області кремнію із отриманням наноструктурованого кремнію. Показано, що в результаті високотемпературного окислення кремнію, а також ряду додаткових причин в приповерхневих шарах утворюється складна дефектна область, яка складається з шару дрібноблокового кремнію і шару, що містить дислокаційні сітки. Стравлювання діоксиду кремнію і обробка різними вибірковими протравлювачами поверхні дозволяє отримувати наноструктурованийкремній із заданою топологією. The quantity and quality analysis of plastic deformation and near-surface silicon layers with nanostructure silicon formation are given in this paper. It is shown, due to hightemperature oxidation and other factors the complex defect structure is generated in near-surface silicon layers. It consists of a disordered silicon layer and a layer of dislocation networks. Silicon dioxide etching and additional chemical treatment allows to obtain nanostructured silicon with given properties.
first_indexed 2025-12-07T18:18:11Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-51758
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 2225-5818
language Russian
last_indexed 2025-12-07T18:18:11Z
publishDate 2011
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling Смынтына, В.А.
Кулинич, О.А.
Яцунский, И.Р.
Марчук, И.А.
2013-12-08T01:35:39Z
2013-12-08T01:35:39Z
2011
Роль пластической деформации в получении нанокремния / В.А. Смынтына, О.А. Кулинич, И.Р. Яцунский, И.А. Марчук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2011. — № 1-2. — С. 22-24. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51758
В результате высокотемпературного окисления Si в приповерхностных слоях образуется сложная дефектная область. Стравливание SiO₂ и обработка поверхности избирательными травителями позволяет получать наноструктурированный Si с заданной топологией.
Показано якісний і кількісний аналіз зв'язку пластичної деформації поверхні і приповерхневої області кремнію із отриманням наноструктурованого кремнію. Показано, що в результаті високотемпературного окислення кремнію, а також ряду додаткових причин в приповерхневих шарах утворюється складна дефектна область, яка складається з шару дрібноблокового кремнію і шару, що містить дислокаційні сітки. Стравлювання діоксиду кремнію і обробка різними вибірковими протравлювачами поверхні дозволяє отримувати наноструктурованийкремній із заданою топологією.
The quantity and quality analysis of plastic deformation and near-surface silicon layers with nanostructure silicon formation are given in this paper. It is shown, due to hightemperature oxidation and other factors the complex defect structure is generated in near-surface silicon layers. It consists of a disordered silicon layer and a layer of dislocation networks. Silicon dioxide etching and additional chemical treatment allows to obtain nanostructured silicon with given properties.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Функциональная микро- и наноэлектроника
Роль пластической деформации в получении нанокремния
Роль пластичної деформації в одержанні нанокремнію
Plastic deformation in nanostructure silicon formation
Article
published earlier
spellingShingle Роль пластической деформации в получении нанокремния
Смынтына, В.А.
Кулинич, О.А.
Яцунский, И.Р.
Марчук, И.А.
Функциональная микро- и наноэлектроника
title Роль пластической деформации в получении нанокремния
title_alt Роль пластичної деформації в одержанні нанокремнію
Plastic deformation in nanostructure silicon formation
title_full Роль пластической деформации в получении нанокремния
title_fullStr Роль пластической деформации в получении нанокремния
title_full_unstemmed Роль пластической деформации в получении нанокремния
title_short Роль пластической деформации в получении нанокремния
title_sort роль пластической деформации в получении нанокремния
topic Функциональная микро- и наноэлектроника
topic_facet Функциональная микро- и наноэлектроника
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51758
work_keys_str_mv AT smyntynava rolʹplastičeskoideformaciivpolučeniinanokremniâ
AT kuliničoa rolʹplastičeskoideformaciivpolučeniinanokremniâ
AT âcunskiiir rolʹplastičeskoideformaciivpolučeniinanokremniâ
AT marčukia rolʹplastičeskoideformaciivpolučeniinanokremniâ
AT smyntynava rolʹplastičnoídeformacíívoderžannínanokremníû
AT kuliničoa rolʹplastičnoídeformacíívoderžannínanokremníû
AT âcunskiiir rolʹplastičnoídeformacíívoderžannínanokremníû
AT marčukia rolʹplastičnoídeformacíívoderžannínanokremníû
AT smyntynava plasticdeformationinnanostructuresiliconformation
AT kuliničoa plasticdeformationinnanostructuresiliconformation
AT âcunskiiir plasticdeformationinnanostructuresiliconformation
AT marčukia plasticdeformationinnanostructuresiliconformation