Низкоразмерные кристаллы кремния для фотоэлектрических преобразователей

Показана возможность использования в качестве антиотражающей поверхности фотоэлектрических преобразователей (ФЭП) ансамблей нанопроволок кремния. Разработан технологический процесс получения нано размерных структур ФЭП и исследованы их характеристики. Показано можливість використання як антивідбивно...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Datum:2011
Hauptverfasser: Дружинин, А.А., Островский, И.П., Ховерко, Ю.Н., Ничкало, С.И., Бережанский, Е.И.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2011
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51844
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Низкоразмерные кристаллы кремния для фотоэлектрических преобразователей / А.А. Дружинин, И.П. Островский, Ю.Н. Ховерко, С.И. Ничкало, Е.И. Бережанский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2011. — № 5. — С. 11-13. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Beschreibung
Zusammenfassung:Показана возможность использования в качестве антиотражающей поверхности фотоэлектрических преобразователей (ФЭП) ансамблей нанопроволок кремния. Разработан технологический процесс получения нано размерных структур ФЭП и исследованы их характеристики. Показано можливість використання як антивідбивної поверхні кремнієвих фотоелекгричних перетворювачів (ФЕП) ансамблів нанодротин кремнію. Розроблено технологічний процес отримання нанорозмірної антивідбивної поверхні, розглянуто структури ФЕП та досліджено їх характеристики. The possibility of using of silicon nanowires ensembles as an anti-reflective surface for silicon photovoltaic cells is shown. The technological process for nanoscale anti-reflective surface is developed, the structures of silicon photovoltaic cell are examined and their characteristics are studied.
ISSN:2225-5818