Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники

• Опубліковано в: : Технология и конструирование в электронной аппаратуре
• Дата: 2010
• Автори: Конакова, Р.В., Колядина, Е.Ю., Матвеева, Л.А, Нелюба, П.Л., Шинкаренко, В.В.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2010
• Теми: Технологические процессы и оборудование
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51983
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники / Р.В. Конакова, Е.Ю. Колядина, Л.А, Матвеева П.Л. Нелюба, В.В. Шинкаренко // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 40-42. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Исследовано влияние типа металлизации и микроволнового облучения на свойства омических контактов к гетеро-структурам, содержащим фуллерены. Выявлено преимущество титановой металлизации перед золотой. Розглянуто два види металізації (Au, Ti) до матеріалу, що містить фулерен. Досліджено ефективність мікрохвильоого відпалу полімер-фулеренового шару з обома металізаціями, та показано, що НВЧ-обробка знижує сумарний опір структури в обох випадках. Показано перспективність використання титанової металізації у порівнянні з золотою, та проаналізовано механізми, що обумовлюють якість титанової металізації.ѕ Two types of metallization (Au, Ti) to a fullerene-bearing material are investigated. The advantages of microwave annealing are noted. Microwave annealing of polymer-fullerene layers with both metallizations is studied; the resistance decreases in both cases. The titanium metallization seems to be more promising than the gold one. The mechanisms responsible for titanium metallization quality are presented.