Свойства и практическое применение нанокристаллических пленок оксида церия

Установлены основные закономерности формирования наноструктурных пленок CeOx с управляемыми физическими свойствами, что расширяет область их применения для создания сенсоров различного назначения. Проведено дослідження властивостей плівок CeOx, виготовлених різними методами. Порівняльний аналіз пока...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Date:2010
Main Authors: Максимчук, Н.В., Шмырева, А.Н., Борисов, А.В.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2010
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51987
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Свойства и практическое применение нанокристаллических пленок оксида церия / Н.В. Максимчук, А.Н. Шмырева, А.В. Борисов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 54-59. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Description
Summary:Установлены основные закономерности формирования наноструктурных пленок CeOx с управляемыми физическими свойствами, что расширяет область их применения для создания сенсоров различного назначения. Проведено дослідження властивостей плівок CeOx, виготовлених різними методами. Порівняльний аналіз показав, що метод «окислення металічного дзеркала» даєплівки зі значно кращими характеристиками, ніж метод«вибухового випаровування», хоча останній дає більш високу фоточутливість плівок CeOx та структур на їх осѕнові. При цьому було визначено оптимальну температуру підкладки. Отримані дані розширюють область застосування CeOx-плівок для мікроелектронних сенсорів. The properties of CeOx films produced by various methods have been investigated. According to the comparative analisys "metallic mirror oxidation" method allows to produce films with significantly better characteristics than the «explosive evaporation» method. Though the latter method yields higher photosensitivity of CeOx films and structures on their base. In the process the optimal value of the substrate temperature was determined. Obtained data expand the CeOx application potential in microelectronic sensor sphere.
ISSN:2225-5818