Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
Исследованы вольт-амперные характеристики металлических контактов на тонких пленках диоксида титана, а также влияние отжига структур в вакууме на их электрические свойства. Досліджено вольт-амперні характеристики металевих кон тактів (Al, Cr, In, Mo, Ti) на тонких плівках діоксиду титану, а також вп...
Saved in:
| Published in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Date: | 2010 |
| Main Authors: | , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2010
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51988 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления / В.В. Брус, З.Д. Ковалюк, П.Д. Марьянчук, И.Г. Орлецкий, Э.В. Майструк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 60-62. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862619549956833280 |
|---|---|
| author | Брус, В.В. Ковалюк, З.Д. Марьянчук, П.Д. Орлецкий, И.Г. Майструк, Э.В. |
| author_facet | Брус, В.В. Ковалюк, З.Д. Марьянчук, П.Д. Орлецкий, И.Г. Майструк, Э.В. |
| citation_txt | Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления / В.В. Брус, З.Д. Ковалюк, П.Д. Марьянчук, И.Г. Орлецкий, Э.В. Майструк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 60-62. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description | Исследованы вольт-амперные характеристики металлических контактов на тонких пленках диоксида титана, а также влияние отжига структур в вакууме на их электрические свойства.
Досліджено вольт-амперні характеристики металевих кон тактів (Al, Cr, In, Mo, Ti) на тонких плівках діоксиду титану, а також вплив відпалу структур у вакуумі на їх електричні ластивості. Вимірювання ВАХ металевих контактів проодилися за допомогою трьохзондового методу. Встановлено, що контакт індію на тонких плівках TiO₂ відзначається чітко вираженими омічними властивостями.
The article deals with research on volt-ampere characteristics of metal contacts (Al, Cr, In, Mo, Ti) on titanium dioxide thin films and influence of annealing in vacuum on their electric properties. Volt-ampere characteristics measurements were taken by three-probe method. There was established that indium contact on TiO₂ thin films possessed sharply defined ohmic properties.
|
| first_indexed | 2025-12-07T13:17:31Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-51988 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 2225-5818 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T13:17:31Z |
| publishDate | 2010 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Брус, В.В. Ковалюк, З.Д. Марьянчук, П.Д. Орлецкий, И.Г. Майструк, Э.В. 2013-12-22T01:21:36Z 2013-12-22T01:21:36Z 2010 Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления / В.В. Брус, З.Д. Ковалюк, П.Д. Марьянчук, И.Г. Орлецкий, Э.В. Майструк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 60-62. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51988 Исследованы вольт-амперные характеристики металлических контактов на тонких пленках диоксида титана, а также влияние отжига структур в вакууме на их электрические свойства. Досліджено вольт-амперні характеристики металевих кон тактів (Al, Cr, In, Mo, Ti) на тонких плівках діоксиду титану, а також вплив відпалу структур у вакуумі на їх електричні ластивості. Вимірювання ВАХ металевих контактів проодилися за допомогою трьохзондового методу. Встановлено, що контакт індію на тонких плівках TiO₂ відзначається чітко вираженими омічними властивостями. The article deals with research on volt-ampere characteristics of metal contacts (Al, Cr, In, Mo, Ti) on titanium dioxide thin films and influence of annealing in vacuum on their electric properties. Volt-ampere characteristics measurements were taken by three-probe method. There was established that indium contact on TiO₂ thin films possessed sharply defined ohmic properties. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Материалы электроники Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления Властивості металічних контактів на плівках TiO₂, виготовлених методом реактивного магнетронного розпилення The properties of metal contacts on TiO₂ thin films produced by reactive magnetron sputtering Article published earlier |
| spellingShingle | Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления Брус, В.В. Ковалюк, З.Д. Марьянчук, П.Д. Орлецкий, И.Г. Майструк, Э.В. Материалы электроники |
| title | Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления |
| title_alt | Властивості металічних контактів на плівках TiO₂, виготовлених методом реактивного магнетронного розпилення The properties of metal contacts on TiO₂ thin films produced by reactive magnetron sputtering |
| title_full | Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления |
| title_fullStr | Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления |
| title_full_unstemmed | Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления |
| title_short | Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления |
| title_sort | свойства металлических контактов на пленках tio₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления |
| topic | Материалы электроники |
| topic_facet | Материалы электроники |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51988 |
| work_keys_str_mv | AT brusvv svoistvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ AT kovalûkzd svoistvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ AT marʹânčukpd svoistvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ AT orleckiiig svoistvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ AT maistrukév svoistvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ AT brusvv vlastivostímetalíčnihkontaktívnaplívkahtio2vigotovlenihmetodomreaktivnogomagnetronnogorozpilennâ AT kovalûkzd vlastivostímetalíčnihkontaktívnaplívkahtio2vigotovlenihmetodomreaktivnogomagnetronnogorozpilennâ AT marʹânčukpd vlastivostímetalíčnihkontaktívnaplívkahtio2vigotovlenihmetodomreaktivnogomagnetronnogorozpilennâ AT orleckiiig vlastivostímetalíčnihkontaktívnaplívkahtio2vigotovlenihmetodomreaktivnogomagnetronnogorozpilennâ AT maistrukév vlastivostímetalíčnihkontaktívnaplívkahtio2vigotovlenihmetodomreaktivnogomagnetronnogorozpilennâ AT brusvv thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering AT kovalûkzd thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering AT marʹânčukpd thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering AT orleckiiig thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering AT maistrukév thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering |