Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления

Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления

Исследованы вольт-амперные характеристики металлических контактов на тонких пленках диоксида титана, а также влияние отжига структур в вакууме на их электрические свойства. Досліджено вольт-амперні характеристики металевих кон тактів (Al, Cr, In, Mo, Ti) на тонких плівках діоксиду титану, а також вп...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Дата:2010
Автори: Брус, В.В., Ковалюк, З.Д., Марьянчук, П.Д., Орлецкий, И.Г., Майструк, Э.В.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2010
Теми:
Материалы электроники
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51988
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления / В.В. Брус, З.Д. Ковалюк, П.Д. Марьянчук, И.Г. Орлецкий, Э.В. Майструк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 60-62. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-51988
record_format dspace
spelling Брус, В.В.
Ковалюк, З.Д.
Марьянчук, П.Д.
Орлецкий, И.Г.
Майструк, Э.В.
2013-12-22T01:21:36Z
2013-12-22T01:21:36Z
2010
Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления / В.В. Брус, З.Д. Ковалюк, П.Д. Марьянчук, И.Г. Орлецкий, Э.В. Майструк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 60-62. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51988
Исследованы вольт-амперные характеристики металлических контактов на тонких пленках диоксида титана, а также влияние отжига структур в вакууме на их электрические свойства.
Досліджено вольт-амперні характеристики металевих кон тактів (Al, Cr, In, Mo, Ti) на тонких плівках діоксиду титану, а також вплив відпалу структур у вакуумі на їх електричні ластивості. Вимірювання ВАХ металевих контактів проодилися за допомогою трьохзондового методу. Встановлено, що контакт індію на тонких плівках TiO₂ відзначається чітко вираженими омічними властивостями.
The article deals with research on volt-ampere characteristics of metal contacts (Al, Cr, In, Mo, Ti) on titanium dioxide thin films and influence of annealing in vacuum on their electric properties. Volt-ampere characteristics measurements were taken by three-probe method. There was established that indium contact on TiO₂ thin films possessed sharply defined ohmic properties.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Материалы электроники
Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
Властивості металічних контактів на плівках TiO₂, виготовлених методом реактивного магнетронного розпилення
The properties of metal contacts on TiO₂ thin films produced by reactive magnetron sputtering
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
spellingShingle Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
Брус, В.В.
Ковалюк, З.Д.
Марьянчук, П.Д.
Орлецкий, И.Г.
Майструк, Э.В.
Материалы электроники
title_short Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_full Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_fullStr Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_full_unstemmed Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_sort свойства металлических контактов на пленках tio₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
author Брус, В.В.
Ковалюк, З.Д.
Марьянчук, П.Д.
Орлецкий, И.Г.
Майструк, Э.В.
author_facet Брус, В.В.
Ковалюк, З.Д.
Марьянчук, П.Д.
Орлецкий, И.Г.
Майструк, Э.В.
topic Материалы электроники
topic_facet Материалы электроники
publishDate 2010
language Russian
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
format Article
title_alt Властивості металічних контактів на плівках TiO₂, виготовлених методом реактивного магнетронного розпилення
The properties of metal contacts on TiO₂ thin films produced by reactive magnetron sputtering
description Исследованы вольт-амперные характеристики металлических контактов на тонких пленках диоксида титана, а также влияние отжига структур в вакууме на их электрические свойства. Досліджено вольт-амперні характеристики металевих кон тактів (Al, Cr, In, Mo, Ti) на тонких плівках діоксиду титану, а також вплив відпалу структур у вакуумі на їх електричні ластивості. Вимірювання ВАХ металевих контактів проодилися за допомогою трьохзондового методу. Встановлено, що контакт індію на тонких плівках TiO₂ відзначається чітко вираженими омічними властивостями. The article deals with research on volt-ampere characteristics of metal contacts (Al, Cr, In, Mo, Ti) on titanium dioxide thin films and influence of annealing in vacuum on their electric properties. Volt-ampere characteristics measurements were taken by three-probe method. There was established that indium contact on TiO₂ thin films possessed sharply defined ohmic properties.
issn 2225-5818
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/51988
citation_txt Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления / В.В. Брус, З.Д. Ковалюк, П.Д. Марьянчук, И.Г. Орлецкий, Э.В. Майструк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 60-62. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT brusvv svoistvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ
AT kovalûkzd svoistvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ
AT marʹânčukpd svoistvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ
AT orleckiiig svoistvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ
AT maistrukév svoistvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ
AT brusvv vlastivostímetalíčnihkontaktívnaplívkahtio2vigotovlenihmetodomreaktivnogomagnetronnogorozpilennâ
AT kovalûkzd vlastivostímetalíčnihkontaktívnaplívkahtio2vigotovlenihmetodomreaktivnogomagnetronnogorozpilennâ
AT marʹânčukpd vlastivostímetalíčnihkontaktívnaplívkahtio2vigotovlenihmetodomreaktivnogomagnetronnogorozpilennâ
AT orleckiiig vlastivostímetalíčnihkontaktívnaplívkahtio2vigotovlenihmetodomreaktivnogomagnetronnogorozpilennâ
AT maistrukév vlastivostímetalíčnihkontaktívnaplívkahtio2vigotovlenihmetodomreaktivnogomagnetronnogorozpilennâ
AT brusvv thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
AT kovalûkzd thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
AT marʹânčukpd thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
AT orleckiiig thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
AT maistrukév thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
first_indexed 2025-12-07T13:17:31Z
last_indexed 2025-12-07T13:17:31Z
_version_ 1850855602671058945

Схожі ресурси