Электроосаждение конформных электродов для получения туннельного перехода с вакуумным нанозазором
Предложены различные технологические приемы, позволяющие получить правильную геометрию электрода в процессе электроосаждения меди и уменьшить внутреннее напряжение осаждаемого слоя. Електроосадження мідного електроду на підкладці Si здійснюється для отримання вакуумного нанозазору великої площі для...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Datum: | 2009 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2009
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52044 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Электроосаждение конформных электродов для получения туннельного перехода с вакуумным нанозазором / Л.Б. Джангидзе, А.Н. Тавхелидзе, Ю.М. Благидзе, З.И. Талиашвили // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 2. — С. 37-42. — Бібліогр.: 18 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52044 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Джангидзе, Л.Б. Тавхелидзе, А.Н. Благидзе, Ю.М. Талиашвили, З.И. 2013-12-26T00:37:58Z 2013-12-26T00:37:58Z 2009 Электроосаждение конформных электродов для получения туннельного перехода с вакуумным нанозазором / Л.Б. Джангидзе, А.Н. Тавхелидзе, Ю.М. Благидзе, З.И. Талиашвили // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 2. — С. 37-42. — Бібліогр.: 18 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52044 Предложены различные технологические приемы, позволяющие получить правильную геометрию электрода в процессе электроосаждения меди и уменьшить внутреннее напряжение осаждаемого слоя. Електроосадження мідного електроду на підкладці Si здійснюється для отримання вакуумного нанозазору великої площі для термотунельних приладів. Для отримання правильної геометрії такого електроду і зменшення внутрішньої напруги в ньому використовували обертання катода, різні захисні маски, асиметричний струмовий режим, регулювання і стабілізацію температуриелектроліту. Зменшення діаметру електроду до 3 мм ізбільшення товщини кремнієвої пластини до 2 мм даєможливість виростити електрод з вигином порядка 2,5 нм/мм. Це дозволило отримати два конформні електроди з нанозазором менше 5 нм на площі 7 мм². Такконформні електроди можна використовувати в пристроях на основі тунельного проходження електронів. Electroplating of a Cu electrode on a Si substrate is carried into effect in order to get vacuum nano-clearance of a big area for the thermotunnel devices. For obtaining the correct geometry of such an electrode and reduction of the internal tension, there were used the rotation of the cathode, various protective masks, the dissymmetric current mode, the regulation and stabilization of electrolit s temperature. The diameter of electrode reduction down to 3 mm and the increase in thickness of an initial silicon plate up to 2 mm enable to grow up an electrode with a bend of about 2,5 nm/mm. Which made it possible to obtain two conform electrodes with the nano-clearance of less than 5 nm on the area of 7 mm². The conform electrodes of this type may be used in the device based on electrons tunnel transition. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование Электроосаждение конформных электродов для получения туннельного перехода с вакуумным нанозазором Електроосадження конформних електродів для отримання тунельного переходу з вакуумним нанозазором Electroplating of the conform electrodes for obtaining of a tunnel transition with a vacuum nanoclearance Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Электроосаждение конформных электродов для получения туннельного перехода с вакуумным нанозазором |
| spellingShingle |
Электроосаждение конформных электродов для получения туннельного перехода с вакуумным нанозазором Джангидзе, Л.Б. Тавхелидзе, А.Н. Благидзе, Ю.М. Талиашвили, З.И. Технологические процессы и оборудование |
| title_short |
Электроосаждение конформных электродов для получения туннельного перехода с вакуумным нанозазором |
| title_full |
Электроосаждение конформных электродов для получения туннельного перехода с вакуумным нанозазором |
| title_fullStr |
Электроосаждение конформных электродов для получения туннельного перехода с вакуумным нанозазором |
| title_full_unstemmed |
Электроосаждение конформных электродов для получения туннельного перехода с вакуумным нанозазором |
| title_sort |
электроосаждение конформных электродов для получения туннельного перехода с вакуумным нанозазором |
| author |
Джангидзе, Л.Б. Тавхелидзе, А.Н. Благидзе, Ю.М. Талиашвили, З.И. |
| author_facet |
Джангидзе, Л.Б. Тавхелидзе, А.Н. Благидзе, Ю.М. Талиашвили, З.И. |
| topic |
Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet |
Технологические процессы и оборудование |
| publishDate |
2009 |
| language |
Russian |
| container_title |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Електроосадження конформних електродів для отримання тунельного переходу з вакуумним нанозазором Electroplating of the conform electrodes for obtaining of a tunnel transition with a vacuum nanoclearance |
| description |
Предложены различные технологические приемы, позволяющие получить правильную геометрию электрода в процессе электроосаждения меди и уменьшить внутреннее напряжение осаждаемого слоя.
Електроосадження мідного електроду на підкладці Si здійснюється для отримання вакуумного нанозазору великої площі для термотунельних приладів. Для отримання правильної геометрії такого електроду і зменшення внутрішньої напруги в ньому використовували обертання катода, різні захисні маски, асиметричний струмовий режим, регулювання і стабілізацію температуриелектроліту. Зменшення діаметру електроду до 3 мм ізбільшення товщини кремнієвої пластини до 2 мм даєможливість виростити електрод з вигином порядка 2,5 нм/мм. Це дозволило отримати два конформні електроди з нанозазором менше 5 нм на площі 7 мм². Такконформні електроди можна використовувати в пристроях на основі тунельного проходження електронів.
Electroplating of a Cu electrode on a Si substrate is carried into effect in order to get vacuum nano-clearance of a big area for the thermotunnel devices. For obtaining the correct geometry of such an electrode and reduction of the internal tension, there were used the rotation of the cathode, various protective masks, the dissymmetric current mode, the regulation and stabilization of electrolit s temperature. The diameter of electrode reduction down to 3 mm and the increase in thickness of an initial silicon plate up to 2 mm enable to grow up an electrode with a bend of about 2,5 nm/mm. Which made it possible to obtain two conform electrodes with the nano-clearance of less than 5 nm on the area of 7 mm². The conform electrodes of this type may be used in the device based on electrons tunnel transition.
|
| issn |
2225-5818 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52044 |
| citation_txt |
Электроосаждение конформных электродов для получения туннельного перехода с вакуумным нанозазором / Л.Б. Джангидзе, А.Н. Тавхелидзе, Ю.М. Благидзе, З.И. Талиашвили // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 2. — С. 37-42. — Бібліогр.: 18 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT džangidzelb élektroosaždeniekonformnyhélektrodovdlâpolučeniâtunnelʹnogoperehodasvakuumnymnanozazorom AT tavhelidzean élektroosaždeniekonformnyhélektrodovdlâpolučeniâtunnelʹnogoperehodasvakuumnymnanozazorom AT blagidzeûm élektroosaždeniekonformnyhélektrodovdlâpolučeniâtunnelʹnogoperehodasvakuumnymnanozazorom AT taliašvilizi élektroosaždeniekonformnyhélektrodovdlâpolučeniâtunnelʹnogoperehodasvakuumnymnanozazorom AT džangidzelb elektroosadžennâkonformnihelektrodívdlâotrimannâtunelʹnogoperehoduzvakuumnimnanozazorom AT tavhelidzean elektroosadžennâkonformnihelektrodívdlâotrimannâtunelʹnogoperehoduzvakuumnimnanozazorom AT blagidzeûm elektroosadžennâkonformnihelektrodívdlâotrimannâtunelʹnogoperehoduzvakuumnimnanozazorom AT taliašvilizi elektroosadžennâkonformnihelektrodívdlâotrimannâtunelʹnogoperehoduzvakuumnimnanozazorom AT džangidzelb electroplatingoftheconformelectrodesforobtainingofatunneltransitionwithavacuumnanoclearance AT tavhelidzean electroplatingoftheconformelectrodesforobtainingofatunneltransitionwithavacuumnanoclearance AT blagidzeûm electroplatingoftheconformelectrodesforobtainingofatunneltransitionwithavacuumnanoclearance AT taliašvilizi electroplatingoftheconformelectrodesforobtainingofatunneltransitionwithavacuumnanoclearance |
| first_indexed |
2025-12-01T11:01:50Z |
| last_indexed |
2025-12-01T11:01:50Z |
| _version_ |
1850860015331573760 |