Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
Исследована погрешность сопротивления тонкопленочного резистора, вызванная исключением контактных площадок перекрытия резистивного и проводящего слоев. Розглянуто конструкцію тонкоплівкового резистора без контактних площадок перекриття резистивного елементу і провідника. Досліджена залежність похибк...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Datum: | 2009 |
| 1. Verfasser: | |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2009
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52314 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора / В.Г. Спирин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 5. — С. 42-44. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52314 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Спирин В.Г. 2013-12-29T17:38:30Z 2013-12-29T17:38:30Z 2009 Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора / В.Г. Спирин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 5. — С. 42-44. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52314 Исследована погрешность сопротивления тонкопленочного резистора, вызванная исключением контактных площадок перекрытия резистивного и проводящего слоев. Розглянуто конструкцію тонкоплівкового резистора без контактних площадок перекриття резистивного елементу і провідника. Досліджена залежність похибки опору такого резистора від несуміщення фотошаблона з провідним шаром підкладки при другій фотолітографії, яка досягає свого максимального значення при коефіцієнті форми резистора, що дорівнює 1,0. A relationship between a thin-film resistor resistance error and mask misalignment with a substrate conductive layer at the second photolithography stage for a thin-film resistor design in which the resistive element does not overlap conductor pads is studied. The error value is at a maximum when the resistor aspect ratio is equal to 1.0. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора Дослідження похибки опору тонкоплівкового резистора Study of thin-film resistor resistance error Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора |
| spellingShingle |
Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора Спирин В.Г. Технологические процессы и оборудование |
| title_short |
Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора |
| title_full |
Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора |
| title_fullStr |
Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора |
| title_full_unstemmed |
Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора |
| title_sort |
исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора |
| author |
Спирин В.Г. |
| author_facet |
Спирин В.Г. |
| topic |
Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet |
Технологические процессы и оборудование |
| publishDate |
2009 |
| language |
Russian |
| container_title |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Дослідження похибки опору тонкоплівкового резистора Study of thin-film resistor resistance error |
| description |
Исследована погрешность сопротивления тонкопленочного резистора, вызванная исключением контактных площадок перекрытия резистивного и проводящего слоев.
Розглянуто конструкцію тонкоплівкового резистора без контактних площадок перекриття резистивного елементу і провідника. Досліджена залежність похибки опору такого резистора від несуміщення фотошаблона з провідним шаром підкладки при другій фотолітографії, яка досягає свого максимального значення при коефіцієнті форми резистора, що дорівнює 1,0.
A relationship between a thin-film resistor resistance error and mask misalignment with a substrate conductive layer at the second photolithography stage for a thin-film resistor design in which the resistive element does not overlap conductor pads is studied. The error value is at a maximum when the resistor aspect ratio is equal to 1.0.
|
| issn |
2225-5818 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52314 |
| citation_txt |
Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора / В.Г. Спирин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 5. — С. 42-44. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT spirinvg issledovaniepogrešnostisoprotivleniâtonkoplenočnogorezistora AT spirinvg doslídžennâpohibkioporutonkoplívkovogorezistora AT spirinvg studyofthinfilmresistorresistanceerror |
| first_indexed |
2025-12-07T19:28:04Z |
| last_indexed |
2025-12-07T19:28:04Z |
| _version_ |
1850878915634003968 |