Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора

Исследована погрешность сопротивления тонкопленочного резистора, вызванная исключением контактных площадок перекрытия резистивного и проводящего слоев. Розглянуто конструкцію тонкоплівкового резистора без контактних площадок перекриття резистивного елементу і провідника. Досліджена залежність похибк...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Datum:2009
1. Verfasser: Спирин В.Г.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2009
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52314
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора / В.Г. Спирин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 5. — С. 42-44. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862731793156800512
author Спирин В.Г.
author_facet Спирин В.Г.
citation_txt Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора / В.Г. Спирин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 5. — С. 42-44. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Исследована погрешность сопротивления тонкопленочного резистора, вызванная исключением контактных площадок перекрытия резистивного и проводящего слоев. Розглянуто конструкцію тонкоплівкового резистора без контактних площадок перекриття резистивного елементу і провідника. Досліджена залежність похибки опору такого резистора від несуміщення фотошаблона з провідним шаром підкладки при другій фотолітографії, яка досягає свого максимального значення при коефіцієнті форми резистора, що дорівнює 1,0. A relationship between a thin-film resistor resistance error and mask misalignment with a substrate conductive layer at the second photolithography stage for a thin-film resistor design in which the resistive element does not overlap conductor pads is studied. The error value is at a maximum when the resistor aspect ratio is equal to 1.0.
first_indexed 2025-12-07T19:28:04Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52314
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 2225-5818
language Russian
last_indexed 2025-12-07T19:28:04Z
publishDate 2009
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling Спирин В.Г.
2013-12-29T17:38:30Z
2013-12-29T17:38:30Z
2009
Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора / В.Г. Спирин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 5. — С. 42-44. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52314
Исследована погрешность сопротивления тонкопленочного резистора, вызванная исключением контактных площадок перекрытия резистивного и проводящего слоев.
Розглянуто конструкцію тонкоплівкового резистора без контактних площадок перекриття резистивного елементу і провідника. Досліджена залежність похибки опору такого резистора від несуміщення фотошаблона з провідним шаром підкладки при другій фотолітографії, яка досягає свого максимального значення при коефіцієнті форми резистора, що дорівнює 1,0.
A relationship between a thin-film resistor resistance error and mask misalignment with a substrate conductive layer at the second photolithography stage for a thin-film resistor design in which the resistive element does not overlap conductor pads is studied. The error value is at a maximum when the resistor aspect ratio is equal to 1.0.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Технологические процессы и оборудование
Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
Дослідження похибки опору тонкоплівкового резистора
Study of thin-film resistor resistance error
Article
published earlier
spellingShingle Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
Спирин В.Г.
Технологические процессы и оборудование
title Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
title_alt Дослідження похибки опору тонкоплівкового резистора
Study of thin-film resistor resistance error
title_full Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
title_fullStr Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
title_full_unstemmed Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
title_short Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
title_sort исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
topic Технологические процессы и оборудование
topic_facet Технологические процессы и оборудование
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52314
work_keys_str_mv AT spirinvg issledovaniepogrešnostisoprotivleniâtonkoplenočnogorezistora
AT spirinvg doslídžennâpohibkioporutonkoplívkovogorezistora
AT spirinvg studyofthinfilmresistorresistanceerror