Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора
Исследована погрешность сопротивления тонкопленочного резистора, вызванная исключением контактных площадок перекрытия резистивного и проводящего слоев. Розглянуто конструкцію тонкоплівкового резистора без контактних площадок перекриття резистивного елементу і провідника. Досліджена залежність похибк...
Saved in:
| Published in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Date: | 2009 |
| Main Author: | |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2009
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52314 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора / В.Г. Спирин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 5. — С. 42-44. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862731793156800512 |
|---|---|
| author | Спирин В.Г. |
| author_facet | Спирин В.Г. |
| citation_txt | Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора / В.Г. Спирин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 5. — С. 42-44. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description | Исследована погрешность сопротивления тонкопленочного резистора, вызванная исключением контактных площадок перекрытия резистивного и проводящего слоев.
Розглянуто конструкцію тонкоплівкового резистора без контактних площадок перекриття резистивного елементу і провідника. Досліджена залежність похибки опору такого резистора від несуміщення фотошаблона з провідним шаром підкладки при другій фотолітографії, яка досягає свого максимального значення при коефіцієнті форми резистора, що дорівнює 1,0.
A relationship between a thin-film resistor resistance error and mask misalignment with a substrate conductive layer at the second photolithography stage for a thin-film resistor design in which the resistive element does not overlap conductor pads is studied. The error value is at a maximum when the resistor aspect ratio is equal to 1.0.
|
| first_indexed | 2025-12-07T19:28:04Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52314 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 2225-5818 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T19:28:04Z |
| publishDate | 2009 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Спирин В.Г. 2013-12-29T17:38:30Z 2013-12-29T17:38:30Z 2009 Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора / В.Г. Спирин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 5. — С. 42-44. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52314 Исследована погрешность сопротивления тонкопленочного резистора, вызванная исключением контактных площадок перекрытия резистивного и проводящего слоев. Розглянуто конструкцію тонкоплівкового резистора без контактних площадок перекриття резистивного елементу і провідника. Досліджена залежність похибки опору такого резистора від несуміщення фотошаблона з провідним шаром підкладки при другій фотолітографії, яка досягає свого максимального значення при коефіцієнті форми резистора, що дорівнює 1,0. A relationship between a thin-film resistor resistance error and mask misalignment with a substrate conductive layer at the second photolithography stage for a thin-film resistor design in which the resistive element does not overlap conductor pads is studied. The error value is at a maximum when the resistor aspect ratio is equal to 1.0. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора Дослідження похибки опору тонкоплівкового резистора Study of thin-film resistor resistance error Article published earlier |
| spellingShingle | Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора Спирин В.Г. Технологические процессы и оборудование |
| title | Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора |
| title_alt | Дослідження похибки опору тонкоплівкового резистора Study of thin-film resistor resistance error |
| title_full | Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора |
| title_fullStr | Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора |
| title_full_unstemmed | Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора |
| title_short | Исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора |
| title_sort | исследование погрешности сопротивления тонкопленочного резистора |
| topic | Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet | Технологические процессы и оборудование |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52314 |
| work_keys_str_mv | AT spirinvg issledovaniepogrešnostisoprotivleniâtonkoplenočnogorezistora AT spirinvg doslídžennâpohibkioporutonkoplívkovogorezistora AT spirinvg studyofthinfilmresistorresistanceerror |