Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
Выбраны оптимальные режимы плазмохимического травления торцов пластин в реакторе, разработанном в ИЯИ, который по производительности превосходит лучший зарубежный аналог при более высоком качестве обработки пластин....
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Дата: | 2009 |
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2009
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52331 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей / О.А. Федорович, М.П. Кругленко, Б.П. Полозов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 46-49. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52331 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Федорович, О.А. Кругленко, М.П. Полозов, Б.П. 2013-12-29T22:21:48Z 2013-12-29T22:21:48Z 2009 Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей / О.А. Федорович, М.П. Кругленко, Б.П. Полозов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 46-49. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52331 Выбраны оптимальные режимы плазмохимического травления торцов пластин в реакторе, разработанном в ИЯИ, который по производительности превосходит лучший зарубежный аналог при более высоком качестве обработки пластин. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей Особливості плазмохімічного травлення торців кремнієвих пластин для фотоелектричних перетворювачів Peculiarity of plasmachemical etching of silicon plate edges of photoelectric converters Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| spellingShingle |
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей Федорович, О.А. Кругленко, М.П. Полозов, Б.П. Технологические процессы и оборудование |
| title_short |
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_full |
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_fullStr |
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_full_unstemmed |
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_sort |
особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| author |
Федорович, О.А. Кругленко, М.П. Полозов, Б.П. |
| author_facet |
Федорович, О.А. Кругленко, М.П. Полозов, Б.П. |
| topic |
Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet |
Технологические процессы и оборудование |
| publishDate |
2009 |
| language |
Russian |
| container_title |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Особливості плазмохімічного травлення торців кремнієвих пластин для фотоелектричних перетворювачів Peculiarity of plasmachemical etching of silicon plate edges of photoelectric converters |
| description |
Выбраны оптимальные режимы плазмохимического травления торцов пластин в реакторе, разработанном в ИЯИ, который по производительности превосходит лучший зарубежный аналог при более высоком качестве обработки пластин.
|
| issn |
2225-5818 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52331 |
| citation_txt |
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей / О.А. Федорович, М.П. Кругленко, Б.П. Полозов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 46-49. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT fedorovičoa osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelei AT kruglenkomp osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelei AT polozovbp osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelei AT fedorovičoa osoblivostíplazmohímíčnogotravlennâtorcívkremníêvihplastindlâfotoelektričnihperetvorûvačív AT kruglenkomp osoblivostíplazmohímíčnogotravlennâtorcívkremníêvihplastindlâfotoelektričnihperetvorûvačív AT polozovbp osoblivostíplazmohímíčnogotravlennâtorcívkremníêvihplastindlâfotoelektričnihperetvorûvačív AT fedorovičoa peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters AT kruglenkomp peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters AT polozovbp peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters |
| first_indexed |
2025-12-07T16:17:39Z |
| last_indexed |
2025-12-07T16:17:39Z |
| _version_ |
1850866935852433408 |