Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей

Выбраны оптимальные режимы плазмохимического травления торцов пластин в реакторе, разработанном в ИЯИ, который по производительности превосходит лучший зарубежный аналог при более высоком качестве обработки пластин....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Datum:2009
Hauptverfasser: Федорович, О.А., Кругленко, М.П., Полозов, Б.П.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2009
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52331
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей / О.А. Федорович, М.П. Кругленко, Б.П. Полозов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 46-49. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862692318993186816
author Федорович, О.А.
Кругленко, М.П.
Полозов, Б.П.
author_facet Федорович, О.А.
Кругленко, М.П.
Полозов, Б.П.
citation_txt Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей / О.А. Федорович, М.П. Кругленко, Б.П. Полозов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 46-49. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Выбраны оптимальные режимы плазмохимического травления торцов пластин в реакторе, разработанном в ИЯИ, который по производительности превосходит лучший зарубежный аналог при более высоком качестве обработки пластин.
first_indexed 2025-12-07T16:17:39Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52331
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 2225-5818
language Russian
last_indexed 2025-12-07T16:17:39Z
publishDate 2009
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling Федорович, О.А.
Кругленко, М.П.
Полозов, Б.П.
2013-12-29T22:21:48Z
2013-12-29T22:21:48Z
2009
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей / О.А. Федорович, М.П. Кругленко, Б.П. Полозов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 46-49. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52331
Выбраны оптимальные режимы плазмохимического травления торцов пластин в реакторе, разработанном в ИЯИ, который по производительности превосходит лучший зарубежный аналог при более высоком качестве обработки пластин.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Технологические процессы и оборудование
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
Особливості плазмохімічного травлення торців кремнієвих пластин для фотоелектричних перетворювачів
Peculiarity of plasmachemical etching of silicon plate edges of photoelectric converters
Article
published earlier
spellingShingle Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
Федорович, О.А.
Кругленко, М.П.
Полозов, Б.П.
Технологические процессы и оборудование
title Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
title_alt Особливості плазмохімічного травлення торців кремнієвих пластин для фотоелектричних перетворювачів
Peculiarity of plasmachemical etching of silicon plate edges of photoelectric converters
title_full Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
title_fullStr Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
title_full_unstemmed Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
title_short Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
title_sort особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
topic Технологические процессы и оборудование
topic_facet Технологические процессы и оборудование
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52331
work_keys_str_mv AT fedorovičoa osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelei
AT kruglenkomp osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelei
AT polozovbp osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelei
AT fedorovičoa osoblivostíplazmohímíčnogotravlennâtorcívkremníêvihplastindlâfotoelektričnihperetvorûvačív
AT kruglenkomp osoblivostíplazmohímíčnogotravlennâtorcívkremníêvihplastindlâfotoelektričnihperetvorûvačív
AT polozovbp osoblivostíplazmohímíčnogotravlennâtorcívkremníêvihplastindlâfotoelektričnihperetvorûvačív
AT fedorovičoa peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters
AT kruglenkomp peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters
AT polozovbp peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters