Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
Выбраны оптимальные режимы плазмохимического травления торцов пластин в реакторе, разработанном в ИЯИ, который по производительности превосходит лучший зарубежный аналог при более высоком качестве обработки пластин....
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Datum: | 2009 |
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russisch |
| Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2009
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52331 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей / О.А. Федорович, М.П. Кругленко, Б.П. Полозов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 46-49. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862692318993186816 |
|---|---|
| author | Федорович, О.А. Кругленко, М.П. Полозов, Б.П. |
| author_facet | Федорович, О.А. Кругленко, М.П. Полозов, Б.П. |
| citation_txt | Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей / О.А. Федорович, М.П. Кругленко, Б.П. Полозов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 46-49. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description | Выбраны оптимальные режимы плазмохимического травления торцов пластин в реакторе, разработанном в ИЯИ, который по производительности превосходит лучший зарубежный аналог при более высоком качестве обработки пластин.
|
| first_indexed | 2025-12-07T16:17:39Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52331 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 2225-5818 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T16:17:39Z |
| publishDate | 2009 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Федорович, О.А. Кругленко, М.П. Полозов, Б.П. 2013-12-29T22:21:48Z 2013-12-29T22:21:48Z 2009 Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей / О.А. Федорович, М.П. Кругленко, Б.П. Полозов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 46-49. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52331 Выбраны оптимальные режимы плазмохимического травления торцов пластин в реакторе, разработанном в ИЯИ, который по производительности превосходит лучший зарубежный аналог при более высоком качестве обработки пластин. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей Особливості плазмохімічного травлення торців кремнієвих пластин для фотоелектричних перетворювачів Peculiarity of plasmachemical etching of silicon plate edges of photoelectric converters Article published earlier |
| spellingShingle | Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей Федорович, О.А. Кругленко, М.П. Полозов, Б.П. Технологические процессы и оборудование |
| title | Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_alt | Особливості плазмохімічного травлення торців кремнієвих пластин для фотоелектричних перетворювачів Peculiarity of plasmachemical etching of silicon plate edges of photoelectric converters |
| title_full | Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_fullStr | Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_full_unstemmed | Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_short | Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| title_sort | особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей |
| topic | Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet | Технологические процессы и оборудование |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52331 |
| work_keys_str_mv | AT fedorovičoa osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelei AT kruglenkomp osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelei AT polozovbp osobennostiplazmohimičeskogotravleniâtorcovkremnievyhplastindlâfotoélektričeskihpreobrazovatelei AT fedorovičoa osoblivostíplazmohímíčnogotravlennâtorcívkremníêvihplastindlâfotoelektričnihperetvorûvačív AT kruglenkomp osoblivostíplazmohímíčnogotravlennâtorcívkremníêvihplastindlâfotoelektričnihperetvorûvačív AT polozovbp osoblivostíplazmohímíčnogotravlennâtorcívkremníêvihplastindlâfotoelektričnihperetvorûvačív AT fedorovičoa peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters AT kruglenkomp peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters AT polozovbp peculiarityofplasmachemicaletchingofsiliconplateedgesofphotoelectricconverters |