Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления
Рассмотрена возможность контроля условий получения стехиометрических пленок TiN и TiO₂ по спектральным характеристикам плазмы магнетронного разряда и по изменению разрядного напряжения....
Saved in:
| Published in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Date: | 2008 |
| Main Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2008
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52448 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления / Е.Г. Костин, A.В. Демчишин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 4. — С. 47-51. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862729129611231232 |
|---|---|
| author | Костин, Е.Г. Демчишин, A.В. |
| author_facet | Костин, Е.Г. Демчишин, A.В. |
| citation_txt | Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления / Е.Г. Костин, A.В. Демчишин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 4. — С. 47-51. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description | Рассмотрена возможность контроля условий получения стехиометрических пленок TiN и TiO₂ по спектральным характеристикам плазмы магнетронного разряда и по изменению разрядного напряжения.
|
| first_indexed | 2025-12-07T19:13:06Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52448 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 2225-5818 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T19:13:06Z |
| publishDate | 2008 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Костин, Е.Г. Демчишин, A.В. 2014-01-01T21:53:48Z 2014-01-01T21:53:48Z 2008 Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления / Е.Г. Костин, A.В. Демчишин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 4. — С. 47-51. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52448 Рассмотрена возможность контроля условий получения стехиометрических пленок TiN и TiO₂ по спектральным характеристикам плазмы магнетронного разряда и по изменению разрядного напряжения. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления Осадження плівок TiN та TiO₂ в оберненому циліндричному магнетроні методом реактивного розпилення Deposition of the TiN andTiO₂, films in the inverted cylindrical direct-current magnetron by a reactive sputtering Article published earlier |
| spellingShingle | Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления Костин, Е.Г. Демчишин, A.В. Технологические процессы и оборудование |
| title | Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления |
| title_alt | Осадження плівок TiN та TiO₂ в оберненому циліндричному магнетроні методом реактивного розпилення Deposition of the TiN andTiO₂, films in the inverted cylindrical direct-current magnetron by a reactive sputtering |
| title_full | Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления |
| title_fullStr | Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления |
| title_full_unstemmed | Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления |
| title_short | Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления |
| title_sort | осаждение пленок tin и tio₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления |
| topic | Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet | Технологические процессы и оборудование |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52448 |
| work_keys_str_mv | AT kostineg osaždenieplenoktinitio2vobraŝennomcilindričeskommagnetronemetodomreaktivnogoraspyleniâ AT demčišinav osaždenieplenoktinitio2vobraŝennomcilindričeskommagnetronemetodomreaktivnogoraspyleniâ AT kostineg osadžennâplívoktintatio2vobernenomucilíndričnomumagnetronímetodomreaktivnogorozpilennâ AT demčišinav osadžennâplívoktintatio2vobernenomucilíndričnomumagnetronímetodomreaktivnogorozpilennâ AT kostineg depositionofthetinandtio2filmsintheinvertedcylindricaldirectcurrentmagnetronbyareactivesputtering AT demčišinav depositionofthetinandtio2filmsintheinvertedcylindricaldirectcurrentmagnetronbyareactivesputtering |