Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления
Рассмотрена возможность контроля условий получения стехиометрических пленок TiN и TiO₂ по спектральным характеристикам плазмы магнетронного разряда и по изменению разрядного напряжения....
Saved in:
| Published in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Date: | 2008 |
| Main Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2008
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52448 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления / Е.Г. Костин, A.В. Демчишин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 4. — С. 47-51. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52448 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Костин, Е.Г. Демчишин, A.В. 2014-01-01T21:53:48Z 2014-01-01T21:53:48Z 2008 Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления / Е.Г. Костин, A.В. Демчишин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 4. — С. 47-51. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52448 Рассмотрена возможность контроля условий получения стехиометрических пленок TiN и TiO₂ по спектральным характеристикам плазмы магнетронного разряда и по изменению разрядного напряжения. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления Осадження плівок TiN та TiO₂ в оберненому циліндричному магнетроні методом реактивного розпилення Deposition of the TiN andTiO₂, films in the inverted cylindrical direct-current magnetron by a reactive sputtering Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления |
| spellingShingle |
Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления Костин, Е.Г. Демчишин, A.В. Технологические процессы и оборудование |
| title_short |
Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления |
| title_full |
Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления |
| title_fullStr |
Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления |
| title_full_unstemmed |
Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления |
| title_sort |
осаждение пленок tin и tio₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления |
| author |
Костин, Е.Г. Демчишин, A.В. |
| author_facet |
Костин, Е.Г. Демчишин, A.В. |
| topic |
Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet |
Технологические процессы и оборудование |
| publishDate |
2008 |
| language |
Russian |
| container_title |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Осадження плівок TiN та TiO₂ в оберненому циліндричному магнетроні методом реактивного розпилення Deposition of the TiN andTiO₂, films in the inverted cylindrical direct-current magnetron by a reactive sputtering |
| description |
Рассмотрена возможность контроля условий получения стехиометрических пленок TiN и TiO₂ по спектральным характеристикам плазмы магнетронного разряда и по изменению разрядного напряжения.
|
| issn |
2225-5818 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52448 |
| citation_txt |
Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления / Е.Г. Костин, A.В. Демчишин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 4. — С. 47-51. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT kostineg osaždenieplenoktinitio2vobraŝennomcilindričeskommagnetronemetodomreaktivnogoraspyleniâ AT demčišinav osaždenieplenoktinitio2vobraŝennomcilindričeskommagnetronemetodomreaktivnogoraspyleniâ AT kostineg osadžennâplívoktintatio2vobernenomucilíndričnomumagnetronímetodomreaktivnogorozpilennâ AT demčišinav osadžennâplívoktintatio2vobernenomucilíndričnomumagnetronímetodomreaktivnogorozpilennâ AT kostineg depositionofthetinandtio2filmsintheinvertedcylindricaldirectcurrentmagnetronbyareactivesputtering AT demčišinav depositionofthetinandtio2filmsintheinvertedcylindricaldirectcurrentmagnetronbyareactivesputtering |
| first_indexed |
2025-12-07T19:13:06Z |
| last_indexed |
2025-12-07T19:13:06Z |
| _version_ |
1850877973497905152 |