Влияние исходных дефектов на распределение механических напряжений и деформаций при окислении кремния

Показано, каким образом дефекты исходного кремния влияют на структурные изменения поверхности и приповерхностной области в процессе высокотемпературного окисления....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Datum:2008
Hauptverfasser: Кулинич, О.А., Смынтына, В.А., Глауберман, М.А., Чемересюк, Г.Г., Яцунский, И.Р.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2008
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52492
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Влияние исходных дефектов на распределение механических напряжений и деформаций при окислении кремния / О.А. Кулинич, В.А. Смынтына, М.А. Глауберман, Г.Г. Чемересюк, И.Р. Яцунский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 5. — С. 62-64. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52492
record_format dspace
spelling Кулинич, О.А.
Смынтына, В.А.
Глауберман, М.А.
Чемересюк, Г.Г.
Яцунский, И.Р.
2014-01-03T23:28:21Z
2014-01-03T23:28:21Z
2008
Влияние исходных дефектов на распределение механических напряжений и деформаций при окислении кремния / О.А. Кулинич, В.А. Смынтына, М.А. Глауберман, Г.Г. Чемересюк, И.Р. Яцунский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 5. — С. 62-64. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52492
Показано, каким образом дефекты исходного кремния влияют на структурные изменения поверхности и приповерхностной области в процессе высокотемпературного окисления.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Материалы электроники
Влияние исходных дефектов на распределение механических напряжений и деформаций при окислении кремния
Вплив вихідних дефектів на розподіл механічних напруг и деформацій при окиснені кремнія
The influence of initial defects on mechanical stress and deformation distribution in oxidized silicon
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Влияние исходных дефектов на распределение механических напряжений и деформаций при окислении кремния
spellingShingle Влияние исходных дефектов на распределение механических напряжений и деформаций при окислении кремния
Кулинич, О.А.
Смынтына, В.А.
Глауберман, М.А.
Чемересюк, Г.Г.
Яцунский, И.Р.
Материалы электроники
title_short Влияние исходных дефектов на распределение механических напряжений и деформаций при окислении кремния
title_full Влияние исходных дефектов на распределение механических напряжений и деформаций при окислении кремния
title_fullStr Влияние исходных дефектов на распределение механических напряжений и деформаций при окислении кремния
title_full_unstemmed Влияние исходных дефектов на распределение механических напряжений и деформаций при окислении кремния
title_sort влияние исходных дефектов на распределение механических напряжений и деформаций при окислении кремния
author Кулинич, О.А.
Смынтына, В.А.
Глауберман, М.А.
Чемересюк, Г.Г.
Яцунский, И.Р.
author_facet Кулинич, О.А.
Смынтына, В.А.
Глауберман, М.А.
Чемересюк, Г.Г.
Яцунский, И.Р.
topic Материалы электроники
topic_facet Материалы электроники
publishDate 2008
language Russian
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
format Article
title_alt Вплив вихідних дефектів на розподіл механічних напруг и деформацій при окиснені кремнія
The influence of initial defects on mechanical stress and deformation distribution in oxidized silicon
description Показано, каким образом дефекты исходного кремния влияют на структурные изменения поверхности и приповерхностной области в процессе высокотемпературного окисления.
issn 2225-5818
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52492
citation_txt Влияние исходных дефектов на распределение механических напряжений и деформаций при окислении кремния / О.А. Кулинич, В.А. Смынтына, М.А. Глауберман, Г.Г. Чемересюк, И.Р. Яцунский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 5. — С. 62-64. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT kuliničoa vliânieishodnyhdefektovnaraspredeleniemehaničeskihnaprâženiiideformaciipriokisleniikremniâ
AT smyntynava vliânieishodnyhdefektovnaraspredeleniemehaničeskihnaprâženiiideformaciipriokisleniikremniâ
AT glaubermanma vliânieishodnyhdefektovnaraspredeleniemehaničeskihnaprâženiiideformaciipriokisleniikremniâ
AT čemeresûkgg vliânieishodnyhdefektovnaraspredeleniemehaničeskihnaprâženiiideformaciipriokisleniikremniâ
AT âcunskiiir vliânieishodnyhdefektovnaraspredeleniemehaničeskihnaprâženiiideformaciipriokisleniikremniâ
AT kuliničoa vplivvihídnihdefektívnarozpodílmehaníčnihnaprugideformacíipriokisneníkremníâ
AT smyntynava vplivvihídnihdefektívnarozpodílmehaníčnihnaprugideformacíipriokisneníkremníâ
AT glaubermanma vplivvihídnihdefektívnarozpodílmehaníčnihnaprugideformacíipriokisneníkremníâ
AT čemeresûkgg vplivvihídnihdefektívnarozpodílmehaníčnihnaprugideformacíipriokisneníkremníâ
AT âcunskiiir vplivvihídnihdefektívnarozpodílmehaníčnihnaprugideformacíipriokisneníkremníâ
AT kuliničoa theinfluenceofinitialdefectsonmechanicalstressanddeformationdistributioninoxidizedsilicon
AT smyntynava theinfluenceofinitialdefectsonmechanicalstressanddeformationdistributioninoxidizedsilicon
AT glaubermanma theinfluenceofinitialdefectsonmechanicalstressanddeformationdistributioninoxidizedsilicon
AT čemeresûkgg theinfluenceofinitialdefectsonmechanicalstressanddeformationdistributioninoxidizedsilicon
AT âcunskiiir theinfluenceofinitialdefectsonmechanicalstressanddeformationdistributioninoxidizedsilicon
first_indexed 2025-12-07T18:28:46Z
last_indexed 2025-12-07T18:28:46Z
_version_ 1850875184404234240