Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев

Представлены результаты исследований по оптимизации режимов предэпитаксиальной обработки подложек GaSb химическим травлением в смеси на основе неорганических кислот....

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Date:2008
Main Authors: Андронова, Е.В., Курак, В.В.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2008
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52537
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев / Е.В. Андронова, В.В. Курак // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 6. — С. 41-43. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52537
record_format dspace
spelling Андронова, Е.В.
Курак, В.В.
2014-01-04T18:14:13Z
2014-01-04T18:14:13Z
2008
Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев / Е.В. Андронова, В.В. Курак // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 6. — С. 41-43. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52537
Представлены результаты исследований по оптимизации режимов предэпитаксиальной обработки подложек GaSb химическим травлением в смеси на основе неорганических кислот.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Технологические процессы и оборудование
Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев
Передепітаксійна обробка підкладок GaSb для рідкофазного вирощування гомоепітаксійних шарів
Preepitaxial substrate treatment of GaSb for liquid phase technology homoepitaxial growth
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев
spellingShingle Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев
Андронова, Е.В.
Курак, В.В.
Технологические процессы и оборудование
title_short Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев
title_full Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев
title_fullStr Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев
title_full_unstemmed Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев
title_sort предэпитаксиальная обработка подложек gasb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев
author Андронова, Е.В.
Курак, В.В.
author_facet Андронова, Е.В.
Курак, В.В.
topic Технологические процессы и оборудование
topic_facet Технологические процессы и оборудование
publishDate 2008
language Russian
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
format Article
title_alt Передепітаксійна обробка підкладок GaSb для рідкофазного вирощування гомоепітаксійних шарів
Preepitaxial substrate treatment of GaSb for liquid phase technology homoepitaxial growth
description Представлены результаты исследований по оптимизации режимов предэпитаксиальной обработки подложек GaSb химическим травлением в смеси на основе неорганических кислот.
issn 2225-5818
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52537
citation_txt Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев / Е.В. Андронова, В.В. Курак // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 6. — С. 41-43. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT andronovaev predépitaksialʹnaâobrabotkapodložekgasbdlâžidkofaznogovyraŝivaniâgomoépitaksialʹnyhsloev
AT kurakvv predépitaksialʹnaâobrabotkapodložekgasbdlâžidkofaznogovyraŝivaniâgomoépitaksialʹnyhsloev
AT andronovaev peredepítaksíinaobrobkapídkladokgasbdlârídkofaznogoviroŝuvannâgomoepítaksíinihšarív
AT kurakvv peredepítaksíinaobrobkapídkladokgasbdlârídkofaznogoviroŝuvannâgomoepítaksíinihšarív
AT andronovaev preepitaxialsubstratetreatmentofgasbforliquidphasetechnologyhomoepitaxialgrowth
AT kurakvv preepitaxialsubstratetreatmentofgasbforliquidphasetechnologyhomoepitaxialgrowth
first_indexed 2025-11-28T01:49:18Z
last_indexed 2025-11-28T01:49:18Z
_version_ 1850853169841569792