Комбинированный способ выращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений А³В⁵
Предлагаемые способ и устройство предназначены для создания многослойных полупроводниковых приборов различного спектрального диапазона, а также структур на основе арсенидгаллиевых соединений....
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Datum: | 2007 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russisch |
| Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2007
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52817 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Комбинированный способ выращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений А³В⁵ / Д.М. Ёдгорова, А.В. Каримов, Ф.А. Гиясова, Р.А. Саидова // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 3. — С. 56-58. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862731373600571392 |
|---|---|
| author | Ёдгорова, Д.М. Каримов, А.В. Гиясова, Ф.А. Саидова, Р.А. |
| author_facet | Ёдгорова, Д.М. Каримов, А.В. Гиясова, Ф.А. Саидова, Р.А. |
| citation_txt | Комбинированный способ выращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений А³В⁵ / Д.М. Ёдгорова, А.В. Каримов, Ф.А. Гиясова, Р.А. Саидова // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 3. — С. 56-58. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description | Предлагаемые способ и устройство предназначены для создания многослойных полупроводниковых приборов различного спектрального диапазона, а также структур на основе арсенидгаллиевых соединений.
|
| first_indexed | 2025-12-07T19:25:41Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52817 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 2225-5818 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T19:25:41Z |
| publishDate | 2007 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Ёдгорова, Д.М. Каримов, А.В. Гиясова, Ф.А. Саидова, Р.А. 2014-01-07T19:13:44Z 2014-01-07T19:13:44Z 2007 Комбинированный способ выращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений А³В⁵ / Д.М. Ёдгорова, А.В. Каримов, Ф.А. Гиясова, Р.А. Саидова // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 3. — С. 56-58. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52817 Предлагаемые способ и устройство предназначены для создания многослойных полупроводниковых приборов различного спектрального диапазона, а также структур на основе арсенидгаллиевых соединений. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование Комбинированный способ выращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений А³В⁵ Комбінований спосіб вирощування епітаксійних шарів напівпровідникових сполук А³В⁵ Combined way of cultivation of epitaxial layers of semiconductor connections А³В⁵ Article published earlier |
| spellingShingle | Комбинированный способ выращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений А³В⁵ Ёдгорова, Д.М. Каримов, А.В. Гиясова, Ф.А. Саидова, Р.А. Технологические процессы и оборудование |
| title | Комбинированный способ выращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений А³В⁵ |
| title_alt | Комбінований спосіб вирощування епітаксійних шарів напівпровідникових сполук А³В⁵ Combined way of cultivation of epitaxial layers of semiconductor connections А³В⁵ |
| title_full | Комбинированный способ выращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений А³В⁵ |
| title_fullStr | Комбинированный способ выращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений А³В⁵ |
| title_full_unstemmed | Комбинированный способ выращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений А³В⁵ |
| title_short | Комбинированный способ выращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений А³В⁵ |
| title_sort | комбинированный способ выращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений а³в⁵ |
| topic | Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet | Технологические процессы и оборудование |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52817 |
| work_keys_str_mv | AT edgorovadm kombinirovannyisposobvyraŝivaniâépitaksialʹnyhsloevpoluprovodnikovyhsoedineniia3v5 AT karimovav kombinirovannyisposobvyraŝivaniâépitaksialʹnyhsloevpoluprovodnikovyhsoedineniia3v5 AT giâsovafa kombinirovannyisposobvyraŝivaniâépitaksialʹnyhsloevpoluprovodnikovyhsoedineniia3v5 AT saidovara kombinirovannyisposobvyraŝivaniâépitaksialʹnyhsloevpoluprovodnikovyhsoedineniia3v5 AT edgorovadm kombínovaniisposíbviroŝuvannâepítaksíinihšarívnapívprovídnikovihspoluka3v5 AT karimovav kombínovaniisposíbviroŝuvannâepítaksíinihšarívnapívprovídnikovihspoluka3v5 AT giâsovafa kombínovaniisposíbviroŝuvannâepítaksíinihšarívnapívprovídnikovihspoluka3v5 AT saidovara kombínovaniisposíbviroŝuvannâepítaksíinihšarívnapívprovídnikovihspoluka3v5 AT edgorovadm combinedwayofcultivationofepitaxiallayersofsemiconductorconnectionsa3v5 AT karimovav combinedwayofcultivationofepitaxiallayersofsemiconductorconnectionsa3v5 AT giâsovafa combinedwayofcultivationofepitaxiallayersofsemiconductorconnectionsa3v5 AT saidovara combinedwayofcultivationofepitaxiallayersofsemiconductorconnectionsa3v5 |