Направленная кристаллизация силицидных пленок на кремниевой подложке

Рассмотрена кристаллизация силицидной фазы кобальта на поверхности монокристаллического кремния и возможность создания самоформирующихся субмикронных и наноразмерных элементов кремниевых интегральных схем....

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Date:2007
Main Author: Белоусов, И.В.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2007
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52879
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Направленная кристаллизация силицидных пленок на кремниевой подложке / И.В. Белоусов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 5. — С. 54-57. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862730217131343872
author Белоусов, И.В.
author_facet Белоусов, И.В.
citation_txt Направленная кристаллизация силицидных пленок на кремниевой подложке / И.В. Белоусов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 5. — С. 54-57. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Рассмотрена кристаллизация силицидной фазы кобальта на поверхности монокристаллического кремния и возможность создания самоформирующихся субмикронных и наноразмерных элементов кремниевых интегральных схем.
first_indexed 2025-12-07T19:18:42Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52879
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 2225-5818
language Russian
last_indexed 2025-12-07T19:18:42Z
publishDate 2007
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling Белоусов, И.В.
2014-01-08T19:05:55Z
2014-01-08T19:05:55Z
2007
Направленная кристаллизация силицидных пленок на кремниевой подложке / И.В. Белоусов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 5. — С. 54-57. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52879
Рассмотрена кристаллизация силицидной фазы кобальта на поверхности монокристаллического кремния и возможность создания самоформирующихся субмикронных и наноразмерных элементов кремниевых интегральных схем.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Технологические процессы и оборудование
Направленная кристаллизация силицидных пленок на кремниевой подложке
Спрямована кристалізація силіцидних плівок на кремнієвій підкладці
Directional crystallization of films silicide on silicon substrate
Article
published earlier
spellingShingle Направленная кристаллизация силицидных пленок на кремниевой подложке
Белоусов, И.В.
Технологические процессы и оборудование
title Направленная кристаллизация силицидных пленок на кремниевой подложке
title_alt Спрямована кристалізація силіцидних плівок на кремнієвій підкладці
Directional crystallization of films silicide on silicon substrate
title_full Направленная кристаллизация силицидных пленок на кремниевой подложке
title_fullStr Направленная кристаллизация силицидных пленок на кремниевой подложке
title_full_unstemmed Направленная кристаллизация силицидных пленок на кремниевой подложке
title_short Направленная кристаллизация силицидных пленок на кремниевой подложке
title_sort направленная кристаллизация силицидных пленок на кремниевой подложке
topic Технологические процессы и оборудование
topic_facet Технологические процессы и оборудование
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52879
work_keys_str_mv AT belousoviv napravlennaâkristallizaciâsilicidnyhplenoknakremnievoipodložke
AT belousoviv sprâmovanakristalízacíâsilícidnihplívoknakremníêvíipídkladcí
AT belousoviv directionalcrystallizationoffilmssilicideonsiliconsubstrate