Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев
Модифицировано устройство для жидкостной эпитаксии полупроводниковых соединений типа АIIIВV. Показана возможность управления градиентом концентрации примесей, создающим внутренние электрические поля в фотоприемной и активной областях структур....
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Дата: | 2007 |
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2007
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52896 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев / А.В. Каримов, Д.М. Ёдгорова, Р.А. Саидова, Ф.А. Гиясова, Ш.А. Хайдаров // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 6. — С. 57-61. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862571354843250688 |
|---|---|
| author | Каримов, А.В. Ёдгорова, Д.М. Саидова, Р.А. Гиясова, Ф.А. Хайдаров, Ш.А. |
| author_facet | Каримов, А.В. Ёдгорова, Д.М. Саидова, Р.А. Гиясова, Ф.А. Хайдаров, Ш.А. |
| citation_txt | Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев / А.В. Каримов, Д.М. Ёдгорова, Р.А. Саидова, Ф.А. Гиясова, Ш.А. Хайдаров // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 6. — С. 57-61. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description | Модифицировано устройство для жидкостной эпитаксии полупроводниковых соединений типа АIIIВV. Показана возможность управления градиентом концентрации примесей, создающим внутренние электрические поля в фотоприемной и активной областях структур.
|
| first_indexed | 2025-11-26T04:20:26Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-52896 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 2225-5818 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-11-26T04:20:26Z |
| publishDate | 2007 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Каримов, А.В. Ёдгорова, Д.М. Саидова, Р.А. Гиясова, Ф.А. Хайдаров, Ш.А. 2014-01-08T22:14:14Z 2014-01-08T22:14:14Z 2007 Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев / А.В. Каримов, Д.М. Ёдгорова, Р.А. Саидова, Ф.А. Гиясова, Ш.А. Хайдаров // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 6. — С. 57-61. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52896 Модифицировано устройство для жидкостной эпитаксии полупроводниковых соединений типа АIIIВV. Показана возможность управления градиентом концентрации примесей, создающим внутренние электрические поля в фотоприемной и активной областях структур. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев Оптимізація розподілення концентрації носіїв по товщиніепітаксійних шарів Optimization of the concentration's distribution of the carriers on thickness of epitaxial layers Article published earlier |
| spellingShingle | Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев Каримов, А.В. Ёдгорова, Д.М. Саидова, Р.А. Гиясова, Ф.А. Хайдаров, Ш.А. Технологические процессы и оборудование |
| title | Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев |
| title_alt | Оптимізація розподілення концентрації носіїв по товщиніепітаксійних шарів Optimization of the concentration's distribution of the carriers on thickness of epitaxial layers |
| title_full | Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев |
| title_fullStr | Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев |
| title_full_unstemmed | Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев |
| title_short | Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев |
| title_sort | оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев |
| topic | Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet | Технологические процессы и оборудование |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52896 |
| work_keys_str_mv | AT karimovav optimizaciâraspredeleniâkoncentraciinositeleipotolŝineépitaksialʹnyhsloev AT edgorovadm optimizaciâraspredeleniâkoncentraciinositeleipotolŝineépitaksialʹnyhsloev AT saidovara optimizaciâraspredeleniâkoncentraciinositeleipotolŝineépitaksialʹnyhsloev AT giâsovafa optimizaciâraspredeleniâkoncentraciinositeleipotolŝineépitaksialʹnyhsloev AT haidarovša optimizaciâraspredeleniâkoncentraciinositeleipotolŝineépitaksialʹnyhsloev AT karimovav optimízacíârozpodílennâkoncentracíínosíívpotovŝiníepítaksíinihšarív AT edgorovadm optimízacíârozpodílennâkoncentracíínosíívpotovŝiníepítaksíinihšarív AT saidovara optimízacíârozpodílennâkoncentracíínosíívpotovŝiníepítaksíinihšarív AT giâsovafa optimízacíârozpodílennâkoncentracíínosíívpotovŝiníepítaksíinihšarív AT haidarovša optimízacíârozpodílennâkoncentracíínosíívpotovŝiníepítaksíinihšarív AT karimovav optimizationoftheconcentrationsdistributionofthecarriersonthicknessofepitaxiallayers AT edgorovadm optimizationoftheconcentrationsdistributionofthecarriersonthicknessofepitaxiallayers AT saidovara optimizationoftheconcentrationsdistributionofthecarriersonthicknessofepitaxiallayers AT giâsovafa optimizationoftheconcentrationsdistributionofthecarriersonthicknessofepitaxiallayers AT haidarovša optimizationoftheconcentrationsdistributionofthecarriersonthicknessofepitaxiallayers |