Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металло­полу­проводниковыми переходами

Результаты могут быть использованы для оценки частотного диапазона, зависимости фоточувствительности от поля, выявления механизмов фоточувствительности двухбарьерных структур с металлополупроводниковыми переходами....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Datum:2005
Hauptverfasser: Ёдгорова, Д.М., Каримов, А.В.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2005
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/53627
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металло­полу­проводниковыми переходами / Д.М. Ёдгорова, А.В. Каримов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 5. — С. 27-30. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-53627
record_format dspace
spelling Ёдгорова, Д.М.
Каримов, А.В.
2014-01-25T12:42:53Z
2014-01-25T12:42:53Z
2005
Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металло­полу­проводниковыми переходами / Д.М. Ёдгорова, А.В. Каримов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 5. — С. 27-30. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/53627
Результаты могут быть использованы для оценки частотного диапазона, зависимости фоточувствительности от поля, выявления механизмов фоточувствительности двухбарьерных структур с металлополупроводниковыми переходами.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Функциональная микро- и наноэлектроника
Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металло­полу­проводниковыми переходами
Визначення характеристик двобар'єрних фотодіодних структур з металнапівпровідниковими переходами
Definition of characteristic of two-barrier photodiode structures with meta1-semiconduction transition
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металло­полу­проводниковыми переходами
spellingShingle Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металло­полу­проводниковыми переходами
Ёдгорова, Д.М.
Каримов, А.В.
Функциональная микро- и наноэлектроника
title_short Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металло­полу­проводниковыми переходами
title_full Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металло­полу­проводниковыми переходами
title_fullStr Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металло­полу­проводниковыми переходами
title_full_unstemmed Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металло­полу­проводниковыми переходами
title_sort определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металло­полу­проводниковыми переходами
author Ёдгорова, Д.М.
Каримов, А.В.
author_facet Ёдгорова, Д.М.
Каримов, А.В.
topic Функциональная микро- и наноэлектроника
topic_facet Функциональная микро- и наноэлектроника
publishDate 2005
language Russian
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
format Article
title_alt Визначення характеристик двобар'єрних фотодіодних структур з металнапівпровідниковими переходами
Definition of characteristic of two-barrier photodiode structures with meta1-semiconduction transition
description Результаты могут быть использованы для оценки частотного диапазона, зависимости фоточувствительности от поля, выявления механизмов фоточувствительности двухбарьерных структур с металлополупроводниковыми переходами.
issn 2225-5818
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/53627
citation_txt Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металло­полу­проводниковыми переходами / Д.М. Ёдгорова, А.В. Каримов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 5. — С. 27-30. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT edgorovadm opredelenieharakteristikdvuhbarʹernyhfotodiodnyhstruktursmetallopoluprovodnikovymiperehodami
AT karimovav opredelenieharakteristikdvuhbarʹernyhfotodiodnyhstruktursmetallopoluprovodnikovymiperehodami
AT edgorovadm viznačennâharakteristikdvobarêrnihfotodíodnihstrukturzmetalnapívprovídnikovimiperehodami
AT karimovav viznačennâharakteristikdvobarêrnihfotodíodnihstrukturzmetalnapívprovídnikovimiperehodami
AT edgorovadm definitionofcharacteristicoftwobarrierphotodiodestructureswithmeta1semiconductiontransition
AT karimovav definitionofcharacteristicoftwobarrierphotodiodestructureswithmeta1semiconductiontransition
first_indexed 2025-12-07T18:24:06Z
last_indexed 2025-12-07T18:24:06Z
_version_ 1850874890750525440