Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металлополупроводниковыми переходами - Ёдгорова, Д.М.; Каримов, А.В. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2005)
Результаты могут быть использованы для оценки частотного диапазона, зависимости фоточувствительности от поля, выявления механизмов фоточувствительности двухбарьерных структур с металлополупроводниковыми переходами.