Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского

Лучшие результаты достигаются при боковом варианте нагрева тигля, выбором мощности дополнительного нагревателя, а также применением теплового экранирования кристалла и флюса....

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Дата:2004
Автори: Ковтун, Г.П., Кравченко, А.И., Кондрик, А.И., Щербань, А.П.
Формат: Стаття
Мова:Російська
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2004
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/56290
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского / Г.П. Ковтун, А.И. Кравченко, А.И. Кондрик, А.П. Щербань // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2004. — № 6. — С. 3-6. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862671980420923392
author Ковтун, Г.П.
Кравченко, А.И.
Кондрик, А.И.
Щербань, А.П.
author_facet Ковтун, Г.П.
Кравченко, А.И.
Кондрик, А.И.
Щербань, А.П.
citation_txt Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского / Г.П. Ковтун, А.И. Кравченко, А.И. Кондрик, А.П. Щербань // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2004. — № 6. — С. 3-6. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Лучшие результаты достигаются при боковом варианте нагрева тигля, выбором мощности дополнительного нагревателя, а также применением теплового экранирования кристалла и флюса.
first_indexed 2025-12-07T15:34:26Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-56290
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 2225-5818
language Russian
last_indexed 2025-12-07T15:34:26Z
publishDate 2004
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling Ковтун, Г.П.
Кравченко, А.И.
Кондрик, А.И.
Щербань, А.П.
2014-02-15T18:11:13Z
2014-02-15T18:11:13Z
2004
Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского / Г.П. Ковтун, А.И. Кравченко, А.И. Кондрик, А.П. Щербань // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2004. — № 6. — С. 3-6. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/56290
Лучшие результаты достигаются при боковом варианте нагрева тигля, выбором мощности дополнительного нагревателя, а также применением теплового экранирования кристалла и флюса.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Материалы для микроэлектроники
Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
Технологічні способи поліпшення теплового режиму вирощування кристалів GaAs за методом Чохральського
The processes to improve the thermal mode of GaAs crystal growth by Czohralski method
Article
published earlier
spellingShingle Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
Ковтун, Г.П.
Кравченко, А.И.
Кондрик, А.И.
Щербань, А.П.
Материалы для микроэлектроники
title Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
title_alt Технологічні способи поліпшення теплового режиму вирощування кристалів GaAs за методом Чохральського
The processes to improve the thermal mode of GaAs crystal growth by Czohralski method
title_full Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
title_fullStr Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
title_full_unstemmed Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
title_short Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
title_sort технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов gaas методом чохральского
topic Материалы для микроэлектроники
topic_facet Материалы для микроэлектроники
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/56290
work_keys_str_mv AT kovtungp tehnologičeskiepriemyulučšeniâteplovogorežimavyraŝivaniâkristallovgaasmetodomčohralʹskogo
AT kravčenkoai tehnologičeskiepriemyulučšeniâteplovogorežimavyraŝivaniâkristallovgaasmetodomčohralʹskogo
AT kondrikai tehnologičeskiepriemyulučšeniâteplovogorežimavyraŝivaniâkristallovgaasmetodomčohralʹskogo
AT ŝerbanʹap tehnologičeskiepriemyulučšeniâteplovogorežimavyraŝivaniâkristallovgaasmetodomčohralʹskogo
AT kovtungp tehnologíčnísposobipolípšennâteplovogorežimuviroŝuvannâkristalívgaaszametodomčohralʹsʹkogo
AT kravčenkoai tehnologíčnísposobipolípšennâteplovogorežimuviroŝuvannâkristalívgaaszametodomčohralʹsʹkogo
AT kondrikai tehnologíčnísposobipolípšennâteplovogorežimuviroŝuvannâkristalívgaaszametodomčohralʹsʹkogo
AT ŝerbanʹap tehnologíčnísposobipolípšennâteplovogorežimuviroŝuvannâkristalívgaaszametodomčohralʹsʹkogo
AT kovtungp theprocessestoimprovethethermalmodeofgaascrystalgrowthbyczohralskimethod
AT kravčenkoai theprocessestoimprovethethermalmodeofgaascrystalgrowthbyczohralskimethod
AT kondrikai theprocessestoimprovethethermalmodeofgaascrystalgrowthbyczohralskimethod
AT ŝerbanʹap theprocessestoimprovethethermalmodeofgaascrystalgrowthbyczohralskimethod