Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского

Лучшие результаты достигаются при боковом варианте нагрева тигля, выбором мощности дополнительного нагревателя, а также применением теплового экранирования кристалла и флюса....

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Date:2004
Main Authors: Ковтун, Г.П., Кравченко, А.И., Кондрик, А.И., Щербань, А.П.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2004
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/56290
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского / Г.П. Ковтун, А.И. Кравченко, А.И. Кондрик, А.П. Щербань // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2004. — № 6. — С. 3-6. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-56290
record_format dspace
spelling Ковтун, Г.П.
Кравченко, А.И.
Кондрик, А.И.
Щербань, А.П.
2014-02-15T18:11:13Z
2014-02-15T18:11:13Z
2004
Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского / Г.П. Ковтун, А.И. Кравченко, А.И. Кондрик, А.П. Щербань // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2004. — № 6. — С. 3-6. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/56290
Лучшие результаты достигаются при боковом варианте нагрева тигля, выбором мощности дополнительного нагревателя, а также применением теплового экранирования кристалла и флюса.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Материалы для микроэлектроники
Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
Технологічні способи поліпшення теплового режиму вирощування кристалів GaAs за методом Чохральського
The processes to improve the thermal mode of GaAs crystal growth by Czohralski method
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
spellingShingle Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
Ковтун, Г.П.
Кравченко, А.И.
Кондрик, А.И.
Щербань, А.П.
Материалы для микроэлектроники
title_short Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
title_full Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
title_fullStr Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
title_full_unstemmed Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского
title_sort технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов gaas методом чохральского
author Ковтун, Г.П.
Кравченко, А.И.
Кондрик, А.И.
Щербань, А.П.
author_facet Ковтун, Г.П.
Кравченко, А.И.
Кондрик, А.И.
Щербань, А.П.
topic Материалы для микроэлектроники
topic_facet Материалы для микроэлектроники
publishDate 2004
language Russian
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
format Article
title_alt Технологічні способи поліпшення теплового режиму вирощування кристалів GaAs за методом Чохральського
The processes to improve the thermal mode of GaAs crystal growth by Czohralski method
description Лучшие результаты достигаются при боковом варианте нагрева тигля, выбором мощности дополнительного нагревателя, а также применением теплового экранирования кристалла и флюса.
issn 2225-5818
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/56290
citation_txt Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского / Г.П. Ковтун, А.И. Кравченко, А.И. Кондрик, А.П. Щербань // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2004. — № 6. — С. 3-6. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT kovtungp tehnologičeskiepriemyulučšeniâteplovogorežimavyraŝivaniâkristallovgaasmetodomčohralʹskogo
AT kravčenkoai tehnologičeskiepriemyulučšeniâteplovogorežimavyraŝivaniâkristallovgaasmetodomčohralʹskogo
AT kondrikai tehnologičeskiepriemyulučšeniâteplovogorežimavyraŝivaniâkristallovgaasmetodomčohralʹskogo
AT ŝerbanʹap tehnologičeskiepriemyulučšeniâteplovogorežimavyraŝivaniâkristallovgaasmetodomčohralʹskogo
AT kovtungp tehnologíčnísposobipolípšennâteplovogorežimuviroŝuvannâkristalívgaaszametodomčohralʹsʹkogo
AT kravčenkoai tehnologíčnísposobipolípšennâteplovogorežimuviroŝuvannâkristalívgaaszametodomčohralʹsʹkogo
AT kondrikai tehnologíčnísposobipolípšennâteplovogorežimuviroŝuvannâkristalívgaaszametodomčohralʹsʹkogo
AT ŝerbanʹap tehnologíčnísposobipolípšennâteplovogorežimuviroŝuvannâkristalívgaaszametodomčohralʹsʹkogo
AT kovtungp theprocessestoimprovethethermalmodeofgaascrystalgrowthbyczohralskimethod
AT kravčenkoai theprocessestoimprovethethermalmodeofgaascrystalgrowthbyczohralskimethod
AT kondrikai theprocessestoimprovethethermalmodeofgaascrystalgrowthbyczohralskimethod
AT ŝerbanʹap theprocessestoimprovethethermalmodeofgaascrystalgrowthbyczohralskimethod
first_indexed 2025-12-07T15:34:26Z
last_indexed 2025-12-07T15:34:26Z
_version_ 1850864216925274112