Рецензенты номера

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Date:2013
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2013
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/56401
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Рецензенты номера // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2013. — № 6. — С. 56. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1859575525281890304
citation_txt Рецензенты номера // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2013. — № 6. — С. 56. — рос.
collection DSpace DC
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
first_indexed 2025-11-27T01:11:03Z
format Article
fulltext Òåõíîëîãèÿ è êîíñòðóèðîâàíèå â ýëåêòðîííîé àïïàðàòóðå, 2013, ¹ 6 56 МАТЕРИАЛЫ ЭЛЕКТРОНИКИ 5. Ben-Chorin M., Kux A. Adsorbate effects on photoluminescence and electrical conductivity of porous silicon, Appl. Phys. Lett., 1994, no 64, pp. 481-483. DOI: 10.1063/1.111136 6. Galeazzo E., Peres H.E.M., Santos G. Gas sensitive porous silicon devices: Responses to organic vapors, Sens. Actuat. B., 2003, no 93, pp. 384—390. DOI: 10.1016/S0925- 4005(03)00200-4 7. Barillaro G., Diligenti A., Nannini A., Strambini L. Low-concentration NO2 detection with an adsorption porous silicon FET, IEEE Sensors. J., 2006, no 6, pp. 19-23. DOI: 10.1109/JSEN.2005.859360 8. Pavlenko N. N., Yatsunskyi I. R., Smyntyna V. A., Myndrul V. B., Kanevskaya O. S. [Applying of porous silicon obtained by metal-assisted chemical etching in sensors and microelectronics] Proc. of the 14th International scientific- practical conference “Modern information and electronic technologies”, 2013, pp. 214-216. (in Russian) 9. Smyntyna V, Iatsunskyi I., Sviridova O., Pav lenko N. Photoluminescence properties of nanostructured silicon fabricated by metal-assisted chemical etching, Frontiers in Optics Conference, 2012, OSA Technical Digest (online), paper FTu1A.6. 10. Balasundaram K., Sadhu J.S., Shin J.C. Porosity control in metal-assisted chemical etching of degenerately doped silicon nanowires, Nanotechnology, 2012, vol. 23, no 30, pp. 305304-305311. DOI: 10.1088/0957-4484/23/30/305304 11. Harada Y., Li X., Bohn P.W., Nuzzo R.G. Catalytic amplification of the soft lithographic patterning of Si. Nonelectrochemical orthogonal fabrication of photoluminescent porous Si pixel arrays, Journal of the American Chemical Society, 2001, vol. 123, no 36, pp. 8709-8717. 12. Huang Z., Geyer N., Werner P. et al. Metal-assisted chemical etching of silicon: a review, Mendeley, 2011, no 23, pp. 285-308. 13. Iatsunskyi I.R., Smyntyna V.A., Pavlenko N.N. Ammonia detection using optical reflectance from porous silicon formed by metal-assisted chemical etching, Proceedings of SPIE “Defense + Security”, vol. 8901A, Germany, Dresden, 2013, paper 8901-20. DOI: 10.1117/12.2028497 Р Е Ö Е Н З Е Н Т Ы Н О М Е Р А Белявский Евгений Данилович, дîêò. фèз.-мàò. íàóê, ïðîфåññîð, НÒÓÓ «Êèåâñêèé ïîëèòåõíèчåñêèé èíñòèòóò» Болтовец Николай Силович, êàíд. фèз.-мàò. íàóê, íàчàëьíèê îòдåëà, НИИ «Оðèîí», ã. Êèåâ Дружинин Анатолий Александрович, дîêò. òåõí. íàóê, ïðîфåññîð, Нàцèîíàëьíыé óíèâåðñèòåò «Льâîâñêàÿ ïîëèòåõíèêà» Костылёв Виталий Петрович, êàíд. фèз.-мàò. íàóê, ñòàðшèé íàóчíыé ñîòðóдíèê, Иíñòèòóò фèзèêè ïîëóïðîâîдíèêîâ èм. В. Е. Лàшêàð¸âà НАНÓ, ã. Êèåâ Кудрик Ярослав Ярославович, êàíд. òåõí. íàóê, ñòàðшèé íàóчíыé ñîòðóдíèê, Иíñòèòóò фèзèêè ïîëóïðîâîдíèêîâ èм. В. Е. Лàшêàðåâà НАНÓ, ã. Êèåâ Пелещак Роман Михайлович, дîêò. фèз.-мàò. íàóê, зàâåдóющèé êàфåдðîé, Äðîãîбычñêèé ãîñóдàðñòâåííыé ïåдàãîãèчåñêèé óíâåðñèòåò èм. И.Фðàíêî Петлицкий Александр Николаевич, êàíд. фèз.-мàò. íàóê, íàчàëьíèê ëàбîðîòîðèè, Фèëèàë НÒЦ «Бåëмèêðîñèñòåмы» ОАО «ИНÒЕГРАЛ», ã. Мèíñê Пилипенко Владимир Александрович, дîêò. òåõí. íàóê, зàмåñòèòåëь дèðåêòîðà, Фèëèàë НÒЦ «Бåëмèêðîñèñòåмы» ОАО «ИНÒЕГРАЛ», ã. Мèíñê Цопа Александр Иванович, дîêò. òåõí. íàóê, ñòàðшèé íàóчíыé ñîòðóдíèê, Õàðьêîâñêèé íàцèîíàëьíыé óíèâåðñèòåò ðàдèîýëåêòðîíèêè Шинкаренко Владимир Викторович, êàíд. фèз.-мàò. íàóê, ñòàðшèé íàóчíыé ñî- òðóдíèê, Иíñòèòóò фèзèêè ïîëóïðîâîдíèêîâ èм. В. Е. Лàшêàð¸âà НАНÓ, ã. Êèåâ Dzvonkovskaya A., Dr. Sc., research scientist, Hamburg University of Technology Kabakchiev H., Dr. Habil, professor, Sofia University «St. Kliment Ohridski» Misiurewicz J., Dr. Sc., Warsaw University of Technology Pasternak M., professor, Military University of Technology, Warsaw Pietrasiński J., Ph. D., Head of Remote Sensing Division, Military University of Technology, Warsaw
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-56401
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 2225-5818
language Russian
last_indexed 2025-11-27T01:11:03Z
publishDate 2013
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling 2014-02-17T23:51:25Z
2014-02-17T23:51:25Z
2013
Рецензенты номера // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2013. — № 6. — С. 56. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/56401
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Рецензенты номера
Article
published earlier
spellingShingle Рецензенты номера
title Рецензенты номера
title_full Рецензенты номера
title_fullStr Рецензенты номера
title_full_unstemmed Рецензенты номера
title_short Рецензенты номера
title_sort рецензенты номера
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/56401