Структура и твердость вакуумно-дуговых конденсатов титана и некоторых сплавов на его основе, полученных из несепарированных потоков плазмы

• Опубліковано в: : Электронная микроскопия и прочность материалов
• Дата: 2010
• Автори: Демчишин, А.В., Мельникова, В.А., Демчишин, А.А., Токарев, О.А., Кулак, Л.Д.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України 2010
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/63514
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Структура и твердость вакуумно-дуговых конденсатов титана и некоторых сплавов на его основе, полученных из несепарированных потоков плазмы / А.В. Демчишин, В.А. Мельникова, А.А. Демчишин, О.А. Токарев, Л.Д. Кулак // Электронная микроскопия и прочность материалов: Сб. научн . тр. — К.: ІПМ НАН України, 2010. — Вип. 17. — С. 45-56. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Исследованы структура, фазовый состав и микротвердость вакуумно-дуговых конденсатов титана и пленочных материалов — сплавов систем Ti—3Al—6Si, Ti—TiB₂, сформированных из нефильтрованных потоков плазмы непрерывного катодно-дугового разряда. Показано, что, варьируя технологические параметры генерирования потоков металлической плазмы и условия их осаждения, можно изменять микроструктурные и морфологические свойства осаждаемых покрытий в широком диапазоне. Досліджено структуру, фазовий склад і мікротвердість вакуумно-дугових конденсатів титану і плівкових матеріалів сплавів систем Ti—3Al—6Si, Ti—TiB₂, сформованих з нефільтрованих потоків плазми безперервного катодно-дугового розряду. Показано, що варіювання технологічних параметрів генерування потоків металевої плазми і умови їх осадження дозволяє змінювати мікроструктурні та морфологічні властивості осаджуємих покриттів у широкому діапазоні. A structure, phase composition and microhardness of vacuum arc titanium condensates and Ti—3Al—6Si, Ti—TiB₂ alloys films produced from non-filtered plasma flows were studied. It was shown that the changes of technological parameters in metallic plasma flow generation and conditions of their deposition allow to control within a wide range the microstructure and morphological properties of deposited coatings.