Особенности роста пленок нитрида углерода в присутствии травящих компонент в ростовой атмосфере

Представлены результаты исследований роста аморфных пленок нитрида углерода a-C:N в условиях интенсивных процессов травления на ростовой поверхности. Обнаружены значительное изменение фазового состава получаемых пленок при различной концентрации травящих компонент в ростовой атмосфере и образование...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физика и техника высоких давлений
Date:2006
Main Authors: Шалаев, Р.В., Прудников, А.М., Варюхин, В.Н., Турка, В.Н., Яковец, А.А., Жихарев, И.В., Беляев, Б.В., Грицких, В.А.
Format: Article
Language:Russian
Published: Донецький фізико-технічний інститут ім. О.О. Галкіна НАН України 2006
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70245
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Особенности роста пленок нитрида углерода в присутствии травящих компонент в ростовой атмосфере / Р.В. Шалаев, А.М. Прудников, В.Н. Варюхин, В.Н. Турка, А.А. Яковец, И.В. Жихарев, Б.В. Беляев, В.А. Грицких // Физика и техника высоких давлений. — 2006. — Т. 16, № 3. — С. 88-95. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Description
Summary:Представлены результаты исследований роста аморфных пленок нитрида углерода a-C:N в условиях интенсивных процессов травления на ростовой поверхности. Обнаружены значительное изменение фазового состава получаемых пленок при различной концентрации травящих компонент в ростовой атмосфере и образование трех принципиально различных типов пленок a-C:N. Results of researches of the carbon nitride films a-C:N growth in conditions of intensive etching processes on the growth surface are presented. Significant change in phase structure of obtained films at various etching component concentrations in the growth atmosphere and formation of three essentially various types of a-C:N films are revealed.
ISSN:0868-5924