Особенности роста пленок нитрида углерода в присутствии травящих компонент в ростовой атмосфере

• Опубліковано в: : Физика и техника высоких давлений
• Дата: 2006
• Автори: Шалаев, Р.В., Прудников, А.М., Варюхин, В.Н., Турка, В.Н., Яковец, А.А., Жихарев, И.В., Беляев, Б.В., Грицких, В.А.
• Формат: Стаття
• Мова: Російська
• Опубліковано: Донецький фізико-технічний інститут ім. О.О. Галкіна НАН України 2006
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70245
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Особенности роста пленок нитрида углерода в присутствии травящих компонент в ростовой атмосфере / Р.В. Шалаев, А.М. Прудников, В.Н. Варюхин, В.Н. Турка, А.А. Яковец, И.В. Жихарев, Б.В. Беляев, В.А. Грицких // Физика и техника высоких давлений. — 2006. — Т. 16, № 3. — С. 88-95. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.

Представлены результаты исследований роста аморфных пленок нитрида углерода a-C:N в условиях интенсивных процессов травления на ростовой поверхности. Обнаружены значительное изменение фазового состава получаемых пленок при различной концентрации травящих компонент в ростовой атмосфере и образование трех принципиально различных типов пленок a-C:N. Results of researches of the carbon nitride films a-C:N growth in conditions of intensive etching processes on the growth surface are presented. Significant change in phase structure of obtained films at various etching component concentrations in the growth atmosphere and formation of three essentially various types of a-C:N films are revealed.